[发明专利]一种怀汝亚光瓷及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201019146026.6 申请日: 2010-02-04
公开(公告)号: CN101792302A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 叶芳;叶维德 申请(专利权)人: 叶芳
主分类号: C04B33/22 分类号: C04B33/22;C04B33/24;C04B33/34
代理公司: 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 代理人: 王从友
地址: 323700 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 亚光 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种怀汝亚光瓷,该怀汝亚光瓷由胎骨料成形、素烧得坯体,坯体再采用釉料上釉经窑炉烧制制得;其特征在于:

所述的胎骨料按质量百分比计由以下的组份构成:

瀑云紫金土  30%-38%      木岱瓷土  21%-25%

氧化铝      10%-18%      高岭土    26%-33%

岭根瓷土    3%-9%;

所述的釉料按质量百分比计由以下的组份构成:

瀑云紫金土  25%-32%      高岭土    17%-23%

钾长石      12%-17%      宝溪釉土  23%-27%

石灰石      13%-16%;

上述的怀汝亚光瓷制备方法包括以下的步骤:

①坯体成型:先将胎骨料按比例装入球磨机,进行自动球磨,20~40小时后将粉碎好的倒出,进行淘洗,淘洗完毕后去水成泥干,然后进行成形,成形后自然晾干再进行修坯,补水,再进行装入窑炉素烧,得坯体;

②釉料上釉:釉料按比例装入球磨机,自动球磨30~40小时倒出成釉浆,调至釉水比重为4.0~6.5g/mm3,放置备用,将已经素烧的坯体细擦光滑,再用清水把坯体的粉末洗干净,然后开始浸釉,首先釉的厚度要保持有1.5~2.5毫米,再放到窑里烘干,再经过一次喷釉,釉水厚度为3~3.5毫米,再放置窑里烘干;

③窑炉烧制:将窑炉点火直接升温到1000℃保温,保温时间为4~4.5个小时,保温时间内控制慢升温达到1050℃后,再经过重还原到1300℃;然后降低温度至900℃,再升温至1100℃,烧制完成。

2.根据权利要求1所述的一种怀汝亚光瓷,其特征在于胎骨料按质量百分比计由以下的组份构成:

瀑云紫金土  32%-36%       木岱瓷土  22%-24%

氧化铝      12%-16%       高岭土    28%-31%

岭根瓷土    4%-8%;

上述各组份的总量为100%。

3.根据权利要求1所述的一种怀汝亚光瓷,其特征在于釉料按质量百分比计由以下的组份构成:

瀑云紫金土  26%-30%       高岭土    18%-22%

钾长石      13%-16%       宝溪釉土  24%-26% 

石灰石  14%-15%;

上述各组份的总量为100%。

4.一种制作如权利要求1或2或3所述的怀汝亚光瓷的制作方法,其特征在于该方法包括以下的步骤:

①坯体成型:先将胎骨料按比例装入球磨机,进行自动球磨,20~40小时后将粉碎好的倒出,进行淘洗,淘洗完毕后去水成泥干,然后进行成形,成形后自然晾干再进行修坯,补水,再进行装入窑炉素烧,得坯体;

②釉料上釉:釉料按比例装入球磨机,自动球磨30~40小时倒出成釉浆,调至釉水比重为4.0~6.5g/mm3,放置备用,将已经素烧的坯体细擦光滑,再用清水把坯体的粉末洗干净,然后开始浸釉,首先釉的厚度要保持有1.5~2.5毫米,再放到窑里烘干,再经过一次喷釉,釉水厚度为3~3.5毫米,再放置窑里烘干;

③窑炉烧制:将窑炉点火直接升温到1000℃保温,保温时间为4~4.5个小时,保温时间内控制慢升温达到1050℃后,再经过重还原到1300℃;然后降低温度至900℃,再升温至1100℃,烧制完成。

5.根据权利要求4所述的怀汝亚光瓷的制作方法,其特征在于:所述的重还原温度为1050-1090℃,还原时间为1.5~2小时。 

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