[实用新型]化学机械抛光浆液环路系统有效
| 申请号： | 201020033143.X | 申请日： | 2010-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN201609869U | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 祝仲凯;桂辉辉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/00 | 分类号： | B24B57/00;B08B9/032 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;顾珊 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 浆液 环路 系统 | ||
1.一种化学机械抛光浆液环路系统，其特征在于，该系统包括氮气输入口(N)、去离子水输入口(D)、化学机械抛光浆液输入口(S)、与所述化学机械抛光浆液输入口(S)连接而用于输送化学机械抛光浆液的浆液主管路(101)、与所述氮气输入口(N)和去离子水输入口(D)连接而用于输送去离子水和氮气的至少一个清洗用流体主管路(205)、设置在化学机械抛光浆液输入口(S)的至少一个阀门(Vs)和设置在所述氮气输入口(N)和所述去离子水输入口(D)的至少一个阀门。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光浆液环路系统，其特征在于，所述的设置在所述氮气输入口(N)和所述去离子水输入口(D)的至少一个阀门是控制所述氮气输入口的阀门(VN)和控制所述去离子水输入口的阀门(VD)，或用于同时控制所述氮气输入口和所述去离子水输入口的一个三通阀门(VN/D)。
3.根据权利要求1或2所述的化学机械抛光浆液环路系统，其特征在于，该系统还包括用于实施化学机械抛光制程的至少一个浆液子回路，所述至少一个浆液子回路与所述浆液主管路(101)和/或所述清洗用流体主管路(205)连接。
4.根据权利要求3所述的化学机械抛光浆液环路系统，其特征在于，该系统还包括设置在所述浆液子回路与所述浆液主管路(101)之间的至少一个阀门和设置在所述浆液子回路与所述清洗用流体主管路(205)之间的至少一个阀门。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光浆液环路系统，其特征在于，所述氮气输入口(N)与厂务系统的氮气供应管连通。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光浆液环路系统，其特征在于，所述去离子水输入口(D)与厂务系统的去离子水供应管连通。
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