[实用新型]ESD保护电路无效
申请号: | 201020037540.4 | 申请日: | 2010-01-05 |
公开(公告)号: | CN201616667U | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 何弢;陈瑜;王佐 | 申请(专利权)人: | 成都智金石科技有限公司 |
主分类号: | H02H9/00 | 分类号: | H02H9/00;H01L23/60 |
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地址: | 610000 四川省成都市高新*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | esd 保护 电路 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种ESD(Electrostatic discharge)保护电路,其用于尤其是音频功放这样的功能模块。
背景技术
静电放电(Electrostatic Discharge,ESD)是造成大多数的电子组件或电子系统受到过度电性应(Electrical Overstress,EOS)破坏的主要因素。这种破坏会导致半导体组件以及计算机系统等,形成一种永久性的毁坏,因而影响集成电路的电路功能,而使得电子产品工作不正常。所以我们必须增加保护电路来保护芯片(在本实用新型中,芯片也被为功能模块、音频功能模块、音频功放或者芯片内部电路)不受静电放电现象的破坏。
由于集成电路的工艺技术进步日新月异,这种和工艺密切相关的ESD保护技术也不断改变保护的方式和性能,最显著的变化来自PN节的工艺进步。在1985年以前,PN节是突变节,这样会形成较窄的空间电荷区,不利于电子的复合和快速的通过,所以ESD保护不理想。后来,出现了用于克服所谓热载子(Hot-Carrier)问题的LDD结构(Lightly DopedDrain,轻掺杂漏区结构),该结构使原来的PN节变成了缓变节,明显地增加了空间电荷区的范围。ESD的保护效果得到明显的提高。接着,由于工艺的特征尺寸的减小和芯片频率的提高,出现了金属化(Salicide)的工艺,由此降低了多晶寄生电阻和源漏寄生电阻,并稍微降低了ESD的保护效果。
现有的ESD保护电路采用了输入和输出的两级式ESD保护,同时还采用了电源到地的专门保护通路和钳位二极管(参见图1)。在这种现有技术中,通常静电放电I/O Pin放电测试包括下列模式:PS模式,即焊盘PAD上有正电压脉冲,放电总线VSS接地,电源总线VDD浮置;ND模式,即焊盘PAD上有负电压脉冲,放电总线VSS浮置,电源总线VDD接地;NS模式,即焊盘PAD上有负电压脉冲,放电总线VSS接地,电源总线VDD浮置;PD模式,即焊盘PAD上有正脉冲,放电总线VSS浮置,电源总线VDD接地;VDD对GND的PD模式;VDD对GND的ND模式。这种测试大体包括了静电放电中的各种情况。
虽然这样的保护方案较好,但是如果将其应用在一些规模较小、并具有大输出驱动的芯片中(例如大于0.8W),那么就存在以下两个缺点:1、由于ESD保护电路的芯片面积很大,会明显增大规模较小的芯片的面积,从而增加芯片的生产加工成本,过高的成本使得该芯片失去市场竞争力。2、由于使用在线性放大的音频功放芯片中,规模较大的输出驱动管会提供自保护能力,所以专门的ESD保护电路变得重复而多余。另外在现有技术中,在利用大功率CMOS管实现ESD保护时,P型MOS部分和N型MOS部分放电特性不同的问题始终未能以低成本的方式得到解决。
美国专利申请US 6,871,333B2公开了一种MOS晶体管布局设计,其中公开了弯曲栅(bent gate)。通过参引,将其内容全部并入于此,如同在这里详细论述了一样。
在当前的音频功放电路中,由于音频功放要求越来越高的输出功率,因此所采用的CMOS驱动模块的输出功率也越来越高,当该输出功率大于0.8W时,该CMOS驱动模块的尺寸就已经很大了。但是,在晶圆面积一定的前提下(晶圆直径例如为6寸或8寸等),随着CMOS驱动模块尺寸的增大,单个晶圆所能够产出的芯片数量也就随之减少。如果仍然采用之前所述的输入和输出两级式ESD保护,那么情况会变得更为糟糕。其结果是,单个芯片成本上升,产品失去市场竞争力。
实用新型内容
基于上述缺点,本实用新型的任务在于提供一种ESD保护电路,其在可靠进行ESD保护和低成本之间找到了一种折衷的优化解决方案。
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