[实用新型]用于连续生产液体硅的装置

权利要求书

1.一种用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，包括反应塔(1)，在反应塔的上部连接有液态硅加料器(6)和尾气排放管(7)，在反应塔的下部连接有气体混合器(5)以及液态硅收集器(2)，所述尾气排放管与气体混合器连通。

2.根据权利要求1所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述反应塔包括外壳(101)、独立内衬(102)、一个以上的上层塔板(103)、底层塔板(109)、降液管(104)、与液态硅收集器连通的液态硅出口(105)、与液态硅加料器连通的液态硅进口(106)、与气体混合器连通的原料气进口(107)以及与尾气排放管连通的尾气出口(108)；

所述独立内衬设置在外壳内部；所述上层塔板、底层塔板、降液管设置在独立内衬内部；所述底层塔板位于上层塔板最下方且位于液态硅出口以及原料气进口的上方；所述降液管连通底层塔板与上层塔板。

3.根据权利要求2所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述上层塔板为两个以上，且由上至下排列；最上方的上层塔板与所述液态硅进口相连，各个上层塔板之间交错的连通有降液管(104)；所述最下方的上层塔板与底层塔板之间通过降液管连通。

4.根据权利要求3所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述上层塔板上设置有固定螺孔(10301)、与所述降液管(104)连通的降液槽(10302)、受液盘(10303)、溢流堰(10304)、气体分布孔(10305)以及位于上层塔板内部的加热金属片(10306)；

所述气体分布孔位于上层塔板中间区域，所述降液槽位于上层塔板的气体分布孔一侧，溢流堰位于降液槽与气体分布孔之间；所述受液盘位于气体分布孔的另一侧，与所述降液槽位置相背；所述加热金属片封装在上层塔板内部且环绕气体分布孔设置，其两端伸出塔板本体且与两电极相连；所述固定螺孔设置在上层塔板的外沿；

最上方的上层塔板的降液槽设置在背离液态硅进口一端；

各个上层塔板的降液槽与其上方和下方的上层塔板的受液盘位置对应。

5.根据权利要求4所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述底层塔板上设有固定螺孔、与其上方的上层塔板的降液管连通的受液盘、降液槽、溢流堰、气体分布孔以及加热金属片；

所述气体分布孔位于底层塔板中间区域，所述降液槽与受液盘位置相背，溢流堰位于降液槽与气体分布孔之间；所述加热金属片封装在底层塔板内部且环绕气体分布孔设置，其两端伸出塔板本体且与两电极相连；所述固定螺孔设置在底层塔板的外沿。

6.根据权利要求4所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述底层塔 板的受液盘位置设置在背离液态硅出口一侧。

7.根据权利要求2所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述外壳与所述独立内衬之间设有间隙。

8.根据权利要求4所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述气体分布孔为浮阀或者泡罩或者筛孔中的任意一种。

9.根据权利要求2所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述外壳采用金属材质结构，并设有冷却夹套。

10.根据权利要求2所述的用于连续生产液体硅的装置，其特征在于，所述液态硅进口与所述液态硅加料器以及液态硅出口与所述液态硅收集器之间通过管道连通，所述管道内设有衬垫层，所述衬垫层外设有电加热线圈。