[实用新型]半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统

权利要求书

1.半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统，其特征在于：它包括彼此之间通过连接管路依次串联相连的研磨废水水箱、膜生物反应器系统、离子交换系统、清水箱、超滤系统、紫外线消毒系统、一级反渗透系统、脱气装置、二级反渗透系统、中间水箱、连续电去离子系统和产水箱，膜生物反应器的浓水出口通过第一浓水管路与污泥处理系统的浓水进水口相连，污泥处理系统的水出口通过出水管与研磨废水水箱的进水口相连并且其污泥排出口与污泥管线相连，所述的离子交换系统连接有再生系统，在所述的紫外线消毒系统和一级反渗透系统之间的连接管路上通过加药管线连接有加药系统并装有第一反渗透进水泵，在所述的脱气装置和二级反渗透系统之间的连接管路上装有第二反渗透进水泵，二级反渗透系统的浓水出口通过第二浓水管路与超滤系统的进水口相连，中间水箱的进水口通过中间水管路与脱气装置的出水口相连，在所述的中间水箱和连续电去离子系统之间的连接管路上装有连续电去离子系统进水高压泵。

2.根据权利要求1所述的半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统，其特征在于：所述的膜生物反应器的膜组件为外压式超滤中空纤维膜系统、内压式超滤中空纤维膜系统、卧式中空纤维膜系统、立式中空纤维膜系统或者浸没式超滤系统中的一种。

3.根据权利要求1所述的半导体行业研磨废水回用为超纯水的处理系统，其特征在于：所述的第一、二反渗透进水泵和连续电去离子系统进水高压泵为双泵串联设置。