[实用新型]三氯氢硅合成炉的冷却装置无效
申请号: | 201020139834.8 | 申请日: | 2010-03-25 |
公开(公告)号: | CN201648007U | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 任玉芬 | 申请(专利权)人: | 任玉芬 |
主分类号: | C01B33/107 | 分类号: | C01B33/107 |
代理公司: | 唐山顺诚专利事务所 13106 | 代理人: | 于文顺 |
地址: | 063021 河北省唐*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 三氯氢硅 合成 冷却 装置 | ||
1.一种三氯氢硅合成炉的冷却装置,其特征是包含热管(2)、蒸发室(6),热管的吸热端(3)置于合成炉的反应区内,热管的放热端(4)设置在蒸发室内,蒸发室内通入液体介质,热管的放热端和吸热端之间隔开。
2.根据权利要求1所述之三氯氢硅合成炉的冷却装置,其特征是若干热管在合成炉反应区的截面上均匀布置,每根热管之间的距离均等。
3.根据权利要求2所述之三氯氢硅合成炉的冷却装置,其特征是设有管板,管板上根据热管的数量设置若干个均匀布置的孔,热管穿过管板上的孔进行设置。
4.根据权利要求2所述之三氯氢硅合成炉的冷却装置,其特征是热管的吸热端设置在反应区内、离底部1-3米的位置;蒸发室设置在合成炉的顶部。
5.根据权利要求2所述之三氯氢硅合成炉的冷却装置,其特征是蒸发室为密闭容器,并设有水进口和蒸汽出口。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于任玉芬,未经任玉芬许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020139834.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:纵剪机分条出料导引装置
- 下一篇:一种电子变压器的保护电路