[实用新型]阴极真空电弧源薄膜沉积装置

权利要求书

1.阴极真空电弧源薄膜沉积装置，包括依次密封连接的阴极真空电弧蒸发源(39)、磁性过滤部分、薄膜沉积真空腔(23)，以及抽真空装置，其特征是：所述磁性过滤部分包括管体与设置在管体外部周缘的磁场产生装置，所述管体包括管体入口端面和管体出口端面，管体入口端面与管体出口端面之间至少有一个弯管，并且该弯管两侧管体的轴线之间的夹角为135°；在阴极真空电弧蒸发源(39)上设置有用于通入惰性气体的气体通道(13)。

2.根据权利要求1所述的阴极真空电弧源薄膜沉积装置，其特征是：所述管体内壁设有栅状挡板(10)。

3.根据权利要求2所述的阴极真空电弧源薄膜沉积装置，其特征是：所述栅状挡板(10)是由倒齿类的栅格串联圈构成。

4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的阴极真空电弧源薄膜沉积装置，其特征是：所述磁性过滤部分的磁场产生装置包括设在管体入口处的拽引线圈(5)、设在管体弯管分的弯转线圈(6)和设在管体出口处的输出线圈(7)，与所述拽引线圈(5)相连的拽引线圈直流电源(33)、与所述弯转线圈(6)相连的弯转线圈直流电源(34)和与所述输出线圈(7)相连的输出线圈直流电源(35)。

5.根据权利要求4所述的阴极真空电弧源薄膜沉积装置，其特征是：所述输出线圈(7)的外侧周缘均匀设置四个扫描线圈(8)，所述扫描线圈(8)与所述输出线圈(7)互相垂直，所述扫描线圈(8)连接有扫描线圈交流电源(36)。

6.根据权利要求1所述的阴极真空电弧源薄膜沉积装置，其特征是：所述阴极真空电弧蒸发源(39)包括阴极(1)，与所述阴极(1)共轴放置的阳极(2)，设置在所述阴极(1)和阳极(2)之间的用于激发电弧的触发电极(12)，所述触发电极(12)的气动阀门(14)，电弧脉冲电源(32)，与所述阳极(2)共轴放置在所述阴极(1)两侧的永磁体(9)，与所述永磁体(9)相连，且可以调节所述永磁体(9)与所述阴极(1)之间距离的螺纹杆(11)；所述永磁体(9)外围设置弧源线圈(4)，所述弧源线圈(4)连接电弧电源线圈直流电源(31)。

7.根据权利要求1所述的阴极真空电弧源薄膜沉积装置，其特征是：所述薄膜沉积真空腔(23)包括位于中间底部的工件架，所述工件架上制有可公转的大盘(19)，所述大盘(19)上制有可自转的小盘(20)。

8.根据权利要求1所述的一种阴极真空电弧源薄膜沉积设备，其特征是：所述抽真空装置的抽气口(21)设置在所述薄膜沉积真空腔(23)上；所述管体横截面呈圆形；所述扫描线圈是环形线圈；所述薄膜沉积真空腔是圆柱形；所述阴极的形状是梯形柱状，阳极的形状是圆柱环形。

9.根据权利要求1所述的阴极真空电弧源薄膜沉积装置，其特征是：所述管体的管壁制有冷却夹层，所述冷却夹层内通有冷却循环水。