[实用新型]键帽及应用其之键盘有效
申请号: | 201020145813.7 | 申请日: | 2010-03-07 |
公开(公告)号: | CN201611622U | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 胡才荣 | 申请(专利权)人: | 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司 |
主分类号: | H01H13/705 | 分类号: | H01H13/705;H01H13/70 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215011 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 应用 键盘 | ||
技术领域
本实用新型是有关于一种键帽及应用其之键盘,且特别是有关于一种可形成不同的光线及颜色效果的键帽及应用其之键盘。
背景技术
目前,键盘的应用相当的普遍。无论是数据的输入及汇整,或者是电玩娱乐上的操作,键盘往往扮演着重要的角色。然而,现行市面上的键盘往往不具设计感及变化性,因此,键盘无法在个人化的潮流下突显出消费者的个人品味及特色。如此一来,键盘并无法在众多的选择下突显出来,使得产品在市面上的竞争力无法确实地提升。因此,如何在多元的选择下,提供不同的键盘的设计,以增加对消费者的注意力及吸引力,乃相关业界所致力的课题之一。
实用新型内容
本实用新型主要提供一种键帽及应用其之键盘,其提供不同的键盘的设计,以吸引消费者的注意来提升产品的竞争力。
根据本实用新型,提出一种键帽,包括主体及第一油墨层。第一油墨层配置于主体上,且具有非贯穿槽及第一贯穿槽。
根据本实用新型所述的键帽,该主体经由该第一贯穿槽露出。
根据本实用新型所述的键帽还包括第二油墨层,配置于该主体与该第一油墨层之间。进一步地,该第二油墨层经由该第一贯穿槽露出。或者进一步地,该第二油墨层具有第二贯穿槽,该第二贯穿槽的位置对应于该第一贯穿槽的位置,该主体经由该第一贯穿槽及该第二贯穿槽露出。
根据本实用新型所述的键帽还包括保护层,配置于该第一油墨层上。进一步地,该保护层为透明材质。
根据本实用新型,再提出一种键盘,包括键座以及数个按键组。按键组配置于键座上。至少一个按键组包括复位机构及键帽。复位机构可动地配置于键座上。键帽耦接于复位机构上。键帽包括主体以及第一油墨层。第一油墨层配置于主体上。其中至少一个按键组的第一油墨层具有非贯穿槽及第一贯穿槽。
根据本实用新型所述的键盘,相邻的该些按键组各具有一个该非贯穿槽,该些非贯穿槽形成图案。
根据本实用新型所述的键盘,相邻的该些按键组各具有一个该第一贯穿槽,该些第一贯穿槽形成图案。
本实用新型的键帽及应用其之键盘,其形成贯穿槽及非贯穿槽于油墨层,以提供不同的配置选择。如此一来,经由第一贯穿槽与非贯穿槽露出的结构不同,能够形成不同的光线及颜色效果,键帽及应用其之键盘可具有设计感,以吸引消费者的注意来提升产品的竞争力。
附图说明
图1A绘示根据本实用新型第一实施例的按键组的上视图。
图1B绘示沿着图1A中的剖面线1B-1B的按键组的剖面图。
图1C绘示图1B中的区域的放大图。
图2A绘示根据本实用新型第二实施例的按键组的上视图。
图2B绘示沿着图2A中的剖面线2B-2B的按键组的剖面图。
图2C绘示图2B中的区域的放大图。
图3绘示根据本实用新型第三实施例的键盘的示意图。
具体实施方式
为使对本实用新型的目的、构造、特征、及其功能有进一步的了解,兹配合实施例详细说明如下。
第一实施例
请同时参照图1A至图1C,图1A绘示根据本实用新型第一实施例的按键组11a的上视图,图1B绘示沿着图1A中的剖面线1B-1B的按键组11a的剖面图,且图1C绘示图1B中的区域A1的放大图。
按键组11a配置于键座13上。按键组11a包含键帽110及复位机构130。复位机构130可动地配置于键座13上。键帽110耦接于复位机构130上。如此一来,每当使用者按压键帽110之后,复位机构130提供恢复力来让键帽110回到初始位置。
键帽110包括主体111及第一油墨层113。第一油墨层113配置于主体111上,且具有非贯穿槽hb1及第一贯穿槽ht1。如此一来,主体111经由第一贯穿槽ht1露出。
第一贯穿槽ht1及非贯穿槽hb1可设计成具有特别的图案,以分别在键帽110形成不同的区域。举例来说,如图1A所示,第一贯穿槽ht1例如是设计成具有英文字母「A」的图案(区域R12),且非贯穿槽hb1例如是设计成具有花朵的图案(区域R13)。由于第一贯穿槽ht1的深度与非贯穿槽hb1的深度不同,且经由第一贯穿槽ht1与非贯穿槽hb1露出的结构不同,因此,不同的光线及颜色效果形成。相较于一般的键帽而言,本实施例的键帽110的外观的变化性及美观度较高,使得对使用者的吸引力与注意力可提高。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司,未经苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020145813.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。