[实用新型]一种改善涂层加工掉胶粒的构造有效

专利信息
申请号: 201020147719.5 申请日: 2010-03-25
公开(公告)号: CN201634940U 公开(公告)日: 2010-11-17
发明(设计)人: 朱青山 申请(专利权)人: 华懋(厦门)织造染整有限公司
主分类号: D06N3/00 分类号: D06N3/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361004 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 涂层 加工 胶粒 构造
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及纺织机械领域,尤其应用于面料整理加工的涂层机器改良。

背景技术

如图1所示,现有设备中的涂层机刀头在开机时有一把刮刀1放在底板3上方,面料2搭设在底板3的上方和刮刀1的下方的刮刀刀头100处,面料2经过刮刀1将树脂涂成一层连续性的薄膜。以达到防水,防油,固纱之效果。面料2经过一定时间加工后于刮刀1后背10会逐渐累积胶粒于刀背,胶粒累积到一定量后如果没有及时清理会带到面料涂层表面,造成表面异常产生,影响相关理化性能。比如耐水压,胶面不良等。为了减少胶粒之产生,使长时间作业的面料保持好的胶面外观,提升品质效果,如果有最好的设备优化效果又不会产生太大的经济投入是最理想的解决办法。

实用新型内容

针对现有设备中存在的不足之处,本实用新型提供一种改善涂层加工掉胶粒的构造,其减少了胶粒的产生,提高产品的品质,成本投入不高,对环境无不良影响。

为实现上述目的,本实用新型技术方案为:

一种改善涂层加工掉胶粒的构造,包括底板及底板上方的刮刀,面料搭设在底板的上方及刮刀刀头处,其特征在于:在刮刀后背一侧设有提布罗拉,提布罗拉的上表面高于刮刀刀头,面料搭设于提布罗拉的上表面。

上述改良方案的有益之处在于:

本实用新型摒弃现有设备中涂层刀头后背沾附胶粒后用纸板擦拭之“土办法”,通过提布罗拉调整刮刀背面之加工面料作业高度,可以有效减少胶粒产生,而且对加工面料表面张力起到平衡作用;使得面料左中右涂层更加均匀。

附图说明

图1是现有技术结构示意图;

图2是本实用新型结构示意图。

具体实施方式

现结合附图和实施例说明本实用新型。

如图2所示一种改善涂层加工掉胶粒的构造,其主要由提布罗拉4配合涂层刀头组成,提布罗拉4置于涂层刮刀1后背10的一侧,提布罗拉4可以上下调整高度,但提布罗拉4的上表面始终高于刮刀1的刀头100。

工作过程中,刮刀1置于底板3的上方,刮刀1与底板3保持一定的间隙来控制涂胶量的大小,面料2沿箭头方向运转,面料2搭设在底板3的上方、刮刀1的下方的刀头100处、提布罗拉4的上表面,通过提布罗拉4的作用,可以适当调节高度来改善面料2在出布时的表面张力,使得表面张力更加均衡,单位面积内涂布左中右更加合理化;而且提布罗拉4的使用在实践过程中还有改善掉胶粒的作用,提布罗拉4的高度控制可以减少残胶沾附于刮刀1后背10的滞留,从而有效改善胶面品质。即使经过长时间工作,刮刀1的后背10也能保持清洁,不会造成胶面刮痕,拖线等异常。

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