[实用新型]缓冲装置在审
申请号: | 201020150373.4 | 申请日: | 2010-03-30 |
公开(公告)号: | CN201638797U | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 杨明生;余超平;刘惠森;范继良;王勇;王曼媛;张华 | 申请(专利权)人: | 东莞宏威数码机械有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/677 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;郝传鑫 |
地址: | 523000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缓冲 装置 | ||
1.一种缓冲装置,用于连接于前处理环境空间与后处理环境空间之间,其特征在于,包括:
密封腔,所述密封腔呈水平放置,所述密封腔的右侧面开设有工件进口,所述工件进口处设置有工件进口阀门,所述密封腔的左侧面开设有工件出口,所述工件出口处设置有工件出口阀门;
工件传动单元,所述工件传动单元包括滚轮驱动装置及枢接于所述密封腔内的若干传动滚轮,所述传动滚轮呈水平的排列于工件进口阀门与工件出口阀门之间,所述滚轮驱动装置驱动所述传动滚轮转动;及
真空度控制单元,所述真空度控制单元包括气管、进气阀门、出气阀门及真空度测量仪器,所述气管与所述密封腔连通且所述气管具有进气分管及出气分管,所述进气阀门装设于所述进气分管上,所述出气阀门装设于所述出气分管上。
2.如权利要求1所述的缓冲装置,其特征在于,还包括控制装置,所述控制装置包括控制处理器、进口传感器及出口传感器,所述进口传感器安装于所述密封腔体内并朝向所述工件进口,且与所述进口阀门电连接;所述出口传感器安装于所述密封腔体内并朝向所述工件出口,且与所述出口阀门电连接;所述控制处理器分别与所述进口传感器和出口传感器电连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造