[实用新型]清洗头及清洗器

权利要求书

1.清洗头，包括

基座，所述基座上设有向上延伸的导管，所述导管上开设有透水孔，且所述基座底部设有弹射抵接部，所述基座还具有闭合环状的周壁；

其特征在于：

所述周壁的内表面上设有第一定位部。

2.根据权利要求1所述的清洗头，其特征在于：

所述第一定位部为沿轴向延伸的平面(51、56、71、76)。

3.根据权利要求2所述的清洗头，其特征在于：

所述周壁为椭圆柱状或圆柱状；

所述第一定位部的数量为二个，且相互平行设置。

4.根据权利要求2或3所述的清洗头，其特征在于：

所述第一定位部还包括自所述平面(51、56、71、76)向周壁内凹的定位槽(52、57、72、77)。

5.根据权利要求2或3所述的清洗头，其特征在于：

所述第一定位部还包括自所述平面(51、56、71、76)向外凸的定位筋条。

6.清洗器，包括

手柄以及可拆卸地安装在所述手柄端部的清洗头，所述清洗头具有基座，所述基座上设有向上延伸的导管，所述导管上开设有透水孔，且所述基座底部设有弹射抵接部，所述基座还具有闭合环状的周壁；

所述手柄具有壳体，所述壳体内设有与所述弹射抵接部抵接的弹射机构；

其特征在于：

所述清洗头的周壁内表面上设有第一定位部，所述手柄端部外表面上设有与所述第一定位部配合的第二定位部。

7.根据权利要求6所述的清洗器，其特征在于：

所述第一定位部为沿轴向延伸的平面(51、56、71、76)；

所述第二定位部为与所述平面(51、56、71、76)配合的平面(33、36)。

8.根据权利要求7所述的清洗器，其特征在于：

所述周壁为椭圆柱状或圆柱状；

所述第一定位部的数量为二个，且相互平行设置；

所述第二定位部的数量也为二个，且相互平行设置。

9.根据权利要求7或8所述的清洗器，其特征在于：

所述第一定位部还包括自所述平面(51、56、71、76)向周壁内凹的定位槽(52、57、72、77)；

所述第二定位部还包括与所述定位槽配合的定位筋条(34、37)。

10.根据权利要求7或8所述的清洗器，其特征在于：

所述第一定位部还包括自所述平面(51、56、71、76)向外凸的定位筋条；

所述第二定位部还包括与所述定位筋条配合的定位槽。