[实用新型]纳米级精度的表面熨压处理与微纳结构阵列加工平台无效
申请号: | 201020163697.1 | 申请日: | 2010-04-20 |
公开(公告)号: | CN201770470U | 公开(公告)日: | 2011-03-23 |
发明(设计)人: | 赵宏伟;胡磊磊;马志超;张洪国;朱帅;邢立峰;黄虎 | 申请(专利权)人: | 赵宏伟 |
主分类号: | B81C99/00 | 分类号: | B81C99/00;B82B3/00 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 朱世林;王怡敏 |
地址: | 130025 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 精度 表面 处理 结构 阵列 加工 平台 | ||
1.一种纳米级精度的表面熨压处理与微纳结构阵列加工平台,包括支撑单元、驱动单元及预紧机构,其特征在于:所述支撑单元由包括支撑单元I(3)及支撑单元II(6),该支撑单元I(3)与支撑单元II(6)螺纹连接;
所述驱动单元包括工具头(1)、碟簧(2)、工具头座(4)及压电叠堆(5),该压电叠堆(5)设置于工具头座(4)的矩形槽中,工具头座(4)的中部以柔性铰链传动;工具头(1)置于工具头座(4)前端的锥形槽中,碟簧(2)置于支撑单元I(3)与工具头(1)之间;所述预紧机构由预紧螺钉(7)与支撑单元II(6)的螺纹相互配合构成。
2.根据权利要求1所述的纳米级精度的表面熨压处理与微纳结构阵列加工平台,其特征在于:所述的工具头(1)为钢球,工具头座(4)为钢球座。
3.根据权利要求1或2所述的纳米级精度的表面熨压处理与微纳结构阵列加工平台,其特征在于:所述的工具头(1)与碟簧(2)相互配合。
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