[实用新型]彩膜基板和液晶显示器

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示技术，尤其涉及一种彩膜基板和液晶显示器。

背景技术

液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)是液晶显示器中的主流产品。液晶显示器通常由外框架和液晶面板构成，而液晶面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，在阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层。

图1A为现有技术中彩膜基板的局部俯视结构示意图，图1B为图1A中沿A-A线的侧视剖切结构示意图，如图1A和图1B所示，现有技术中的彩膜基板由玻璃基板(Glass Substrate)1、黑矩阵(Black Matrix；以下简称：BM)2、彩色层(Color Layer)3、保护层(Over Coat)4以及铟锡氧化物(Indium Tin Oxides；以下简称：ITO)导电膜5组成。其中，设置黑矩阵的主要目的为遮挡TFT基板上可能漏光的区域，阻挡外界射入TFT的光，避免因光射入TFT有源层而导致a-Si:H的特性发生改变。

然而，在实际应用中，图2为现有技术中TFT漏电流发生的原理示意图，如图2所示，由背光源发出的光也斜射在黑矩阵上，尽管黑矩阵可以吸收大部分光，但仍有部分光线反射回来，并射入到有源层中，引起TFT漏光电流的产生。而TFT漏光电流的增大会导致电压保持率的降低，颜色显示不正常，从而降低液晶显示器的对比度。

实用新型内容

本实用新型提供一种彩膜基板和液晶显示器，以实现降低光谱能量的效果，达到减弱TFT漏光电流，提高电压保持率，进而提高液晶显示器的对比度。

本实用新型提供一种彩膜基板，包括玻璃基板和黑矩阵，所述黑矩阵由一层不透光层和至少一层透光层组成，所述至少一层透光层位于所述不透光层的远离所述玻璃基板的一侧。

如上所述的彩膜基板，其中，所述黑矩阵由一层不透光层和一层透光层组成，所述透光层位于所述不透光层的远离所述玻璃基板的一侧。

或者，所述黑矩阵由一层不透光层和两层透光层组成，其中一层所述透光层位于所述不透光层的远离所述玻璃基板的一侧，另一层所述透光层位于所述不透光层的靠近所述玻璃基板的一侧。

进一步地，所述透光层的材料为透明的金属氧化物或非金属氧化物，所述不透光层的材料为金属。

更进一步地，所述透光层的材料为氧化铬或氧化硅。

更进一步地，位于所述不透光层的远离所述玻璃基板一侧的透光层的厚度由背光源的光谱决定。

更进一步地，位于所述不透光层上部的透光层的厚度由背光源的光谱决定，位于所述不透光层下部的透光层的厚度由自然光的光谱决定。

本实用新型还提供了一种液晶显示器，包括外框架和液晶面板，所述液晶面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板之间填充有液晶层，所述彩膜基板采用上述的彩膜基板。

本实施例提供的彩膜基板和液晶显示器，通过将黑矩阵设置为不透光层和透光层组成的两层结构，使得背光源发出的光在照射到黑矩阵上时发生干涉，以减少背光源的光经过黑矩阵反射之后进入TFT沟道区域中的光的能量，减弱了TFT漏光电流，提高了电压保持率，进而提高了液晶显示器的对比度。

附图说明

图1A为现有技术中彩膜基板的局部俯视结构示意图；

图1B为图1A中沿A-A线的侧视剖切结构示意图；

图2为现有技术中TFT漏电流发生的原理示意图；

图3为本实用新型彩膜基板的侧视剖切结构示意图一；

图4为本实用新型彩膜基板的侧视剖切结构示意图二；

图5为本实用新型彩膜基板中黑矩阵的表面干涉原理示意图；

图6为本实用新型中不同背光源对应的I-V曲线；

图7为本实用新型中背光源的光谱示意图一；

图8为本实用新型中背光源的光谱示意图二；

图9为本实用新型中背光源的光谱示意图三。

附图标记：

1-玻璃基板；    2-黑矩阵；     3-彩色层；

4-保护层；      5-ITO导电膜；  51-透明导电电极；

21-不透光层；   22-透光层。

具体实施方式