[实用新型]具有加热罩的真空蒸镀装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空蒸镀装置，特别是涉及一种应用于晶圆制作过程中的具有加热罩的真空蒸镀装置。

背景技术

简单来说，真空蒸镀就是将蒸镀材气化后，使其在被镀物表面形成薄膜。更详细地说，可在真空环境下加热蒸镀材，使蒸镀材受热而蒸发气化或升华，并使气态的蒸镀材附着在被镀物表面，并在被镀物表面形成薄膜。而在真空环境下操作，就是为了避免气化的蒸镀材在没有接触到被镀物之前即与气体分子碰撞。此外，真空环境下也可降低蒸镀材的蒸发温度。

图1A为现有技术中蒸镀材50吸附在被镀物51上的示意图。图1B为现有技术中蒸镀材50进行扩散运动的示意图。图1C为现有技术中蒸镀材50紧密堆迭的示意图。图2为现有技术中蒸镀材50松散堆迭的示意图。如图1A所示，蒸镀材50气化后的原子会吸附在被镀物51表面，并在被镀物51表面进行化学反应。如图1B所示，于此同时，原子会在被镀物51表面进行扩散运动。如图1C所示，原子间彼此碰撞并形成原子团，原子团再彼此聚合扩大并连结，就会形成整个连续且原子间紧密堆迭的薄膜。

然而基本上难以掌控蒸镀材50气化后的原子扩散行进的方向，因此使得大部分的蒸镀材50都不能附着在被镀物51上，从而造成蒸镀率低且蒸镀速率慢等问题。又因为被镀物51上平面各点与蒸发源距离各不相同，容易使蒸镀后的薄膜厚度分布不均匀。此外，如图2所示，由于加热蒸发源后产生的蒸镀材50的原子，需扩散一段距离后才能抵达被镀物51，若蒸镀材50的原子在没有接触到被镀物51之前能量即已损耗，而能量不足会造成原子排列松散不整齐并导致原子间密实度不佳，上述这些原因都会造成蒸镀效果差且薄膜厚度不均匀、易脱落、缺失等现象。

由此可见，上述现有的真空蒸镀装置在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决真空蒸镀装置存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种蒸镀率高、蒸镀速率高且蒸镀效果好的新型结构的具有加热罩的真空蒸镀装置，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。

有鉴于上述现有的真空蒸镀装置存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的具有加热罩的真空蒸镀装置，能够改进一般现有的真空蒸镀装置，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本实用新型。

发明内容

本实用新型的目的在于，克服现有的真空蒸镀装置存在的缺陷，而提供一种新型结构的具有加热罩的真空蒸镀装置，所要解决的技术问题是使其蒸镀率高、蒸镀速率高以及蒸镀效果好，从而更加适于实用。

本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本实用新型提出的具有加热罩的真空蒸镀装置，包括：一本体，本体具有一真空腔室；一蒸发源，蒸发源设置在真空腔室的底部；一镀锅，镀锅借由一旋转机构设置在真空腔室的顶部；以及一加热罩，加热罩设置在真空腔室内并置于镀锅相对于蒸发源的另一侧。

本实用新型的目的以及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。

前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩为一罩体式加热模组。

前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩为一加热板。

前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩为一罩体并在其内表面装设至少一个加热体。

前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热体为一加热管或一加热板。

前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩罩住且覆盖所述的镀锅。

前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的具有加热罩的真空蒸镀装置还包括至少一设置在所述真空腔室的底部的石英灯。

前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的镀锅上设置有多个用以置放一晶圆的承载槽。

本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案其至少具有下列优点：

a.借由加热罩的设置，可再次提供蒸镀材蒸镀时所需的能量，从而可以提高真空蒸镀装置的蒸镀率和蒸镀速率。

b.借由加热罩作为辅助热源，可使蒸镀材的原子晶格排列更为整齐，以及可提升蒸镀材与被镀物之间的密实性，从而使真空蒸镀装置的蒸镀效果更好。