[实用新型]干涉装置以及枢纽器无效

专利信息
申请号: 201020197820.1 申请日: 2010-05-09
公开(公告)号: CN201751608U 公开(公告)日: 2011-02-23
发明(设计)人: 刘家宏 申请(专利权)人: 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司
主分类号: F16C11/10 分类号: F16C11/10;F16C11/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215011 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 干涉 装置 以及 枢纽
【权利要求书】:

1.一种干涉装置,用于枢纽器,该枢纽器具有枢轴,其特征在于,该干涉装置包含:

第一干涉组件,套设于该枢轴,该第一干涉组件具有第一端面,该第一端面上具有一对第一干涉结构对称于该枢轴而设置,该第一端面具有至少一第三干涉结构不对称于该枢轴而设置;以及

第二干涉组件,转动套设于该枢轴,该第二干涉组件具有第二端面面对该第一端面,该第二端面具有一对第二干涉结构对称于该枢轴而设置,该第二端面具有至少一第四干涉结构不对称于该枢轴而设置,并且该至少一第四干涉结构与该至少一第三干涉结构呈相对配置;

其中,该对第二干涉结构与该对第一干涉结构配合并且该至少一第三干涉结构能与该至少一第四干涉结构选择性地干涉致使该第二干涉组件转动时该对第一干涉结构于一第一角度选择性地嵌合该对第二干涉结构。

2.根据权利要求1所述的干涉装置,其特征在于:该对第一干涉结构的两端分别设置第一斜面,该对第二干涉结构的两端分别设置第二斜面,该些第一斜面以及该些第二斜面于该对第一干涉结构嵌合该对第二干涉结构时互相接触,并且当该第二干涉组件转动时,该对第一干涉结构以及该对第二干涉结构藉由该些第一斜面以及该些第二斜面离开嵌合状态。

3.根据权利要求1所述的干涉装置,其特征在于:该至少一第三干涉结构的两端分别设置第三斜面,该至少一第四干涉结构的两端分别设置第四斜面,该至少一第三干涉结构能于第二角度嵌合该至少一第四干涉结构,并且该些第三斜面以及该些第四斜面于该至少一第三干涉结构嵌合该至少一第四干涉结构时互相接触,当该第二干涉组件转动时,该至少一第三干涉结构以及该至少一第四干涉结构藉由该些第三斜面以及该些第四斜面离开嵌合状态。

4.根据权利要求1所述的干涉装置,其特征在于:该对第一干涉结构的高度大于或等于该至少一第三干涉结构的高度。

5.根据权利要求1所述的干涉装置,其特征在于:该对第二干涉结构的高度大于或等于该至少一第四干涉结构的高度。

6.根据权利要求1所述的干涉装置,其特征在于:该第一干涉组件包含一个第三干涉结构并且该第二干涉组件包含一个第四干涉结构,该第三干涉结构与该第四干涉结构于该第二干涉组件转动每360度时互相嵌合。

7.根据权利要求1所述的干涉装置,其特征在于:该第一干涉组件包含三个第三干涉结构并且该第二干涉组件包含三个第四干涉结构,该些第三干涉结构与该些第四干涉结构于该第二干涉组件转动每120度时互相嵌合。

8.一种枢纽器,其特征在于,包含:

枢轴;以及

如权利要求1至7中任意一项权利要求所述的干涉装置。

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