[实用新型]输送装置的磁性导正机构

说明书

技术领域

本新型涉及一种输送装置，特别涉及一种输送装置的磁性导正机构。

背景技术

连续输送装置被广泛的运用在许多领域中，特别被应用至需要连续加工的工艺。以运用在半导体制造业、光电业、电子业等的溅镀技术工艺为例，为了提高镀膜产品的竞争力、降低设备与操作成本、缩短周期时间(cycle time)、提高产能效率以及提升镀膜质量与产品良率，连续式(in-line)多腔体(multi-chambers)真空溅镀设备便从其它溅镀设备中脱颖而出。此连续式多腔体真空溅镀设备其特点便是使用一连续输送装置。连续式真空溅镀设备通常包含一入料腔体、一镀膜腔体、一出料腔体以及一连续输送装置，其中入料腔体以及出料腔体的真空度低于镀膜腔体的真空度。待加工的一基板是借由连续输送装置一片接一片地连续输入或输出上述腔体，并在腔体内进行溅镀加工的动作。

连续式多腔体真空溅镀设备中，最常使用的便是一直立式连续输送装置。一般的直立式连续输送装置是由一滑轨、一滑块、一承载工具以及多个滚轮所组成。其搭配方式如下：承载工具的一上缘与滑块接合，而滑块则置于滑轨内。滚轮置于承载工具的一下缘，目的是提供动力使承载工具能往前进。当承载工具往前进时，便会因承载工具与滑块间的结合，而连带使承载工具顺着滑轨的一轨道移动。

但是，以往的现有技术会有滑块与滑轨间磨擦干涉以及偏移的问题存在。原因在于滑块与滑轨之间的搭配是接触式的，所以滑块与滑轨间必须要有适当的一间隙才能使滑块顺利在滑轨上移动。然而连续式多腔体真空溅镀设备的每个腔体的温度均不同，并且每个腔体内的温度分部亦不平均。而滑块与滑轨间的运动皆在上述腔体内进行，因此滑块与滑轨在冷缩热胀下，滑块与滑轨间的间隙便会有大有小。滑块与与滑轨间的间隙太大时，此间隙会造成滑块在运行中偏移，而滑块的偏移会连带使承载工具在输送上也产生偏移；滑块与滑轨间的间隙太小，便会造成滑块与滑轨间的磨擦与干涉，损耗输送装置的寿命。

实用新型内容

鉴于以上的问题，本实用新型的目的在于提供一种输送装置的磁性导正机构，借以解决现有技术所存在滑轨与滑块间偏移与磨擦干涉的问题。

本实用新型所揭露的输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一承载工具，此承载工具被多个滚轮输送前进。而磁性导正机构包含一滑座及一轨道。其中，滑座连接于承载工具的一侧边，并于滑座内部设置有至少一第一磁性组件。轨道具有二彼此相对的槽状框件，并使滑座位于二槽状框件之间且相隔一距离，此二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件。当滑座相对于轨道移动时，使其第二磁性组件与第三磁性组件分别相斥于第一磁性组件，令滑座非接触于二槽状框件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中二槽状框件分别具有一沟槽，各沟槽分别用以承载第二磁性组件与第三磁性组件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中滑座具有一凹陷，凹陷位于滑座内部中央。凹陷用来承载容纳第一磁性组件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载工具沿着该垂直轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具与该多个滚轮之间保持一垂直角度。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载工具沿一倾斜轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具沿着该倾斜轴向与该垂直轴向之间保持一倾斜角度，该倾斜角度小于15°。

本实用新型所还揭露另一实施例的输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一承载工具，此承载工具被多个滚轮输送前进。而磁性导正机构包含一滑座、一轨道及一磁性控制设备。其中，滑座连接于承载工具的一侧边，并于滑座内部设置有至少一第一磁性组件。轨道具有二彼此相对的槽状框件，并使滑座位于二槽状框件之间且相隔一距离，此二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件。磁性控制设备分别电性连接于第二磁性组件和第三磁性组件。

当滑座相对于轨道移动时，第二磁性组件与第三磁性组件分别相斥于第一磁性组件，并借由磁性控制设备调整第二磁性组件和第三磁性组件的相斥力，令滑座恒保持在二槽状框件的中间位置。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该二槽状框件分别具有一沟槽，各该沟槽分别用以承载该第二磁性组件与该第三磁性组件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该滑座具有一凹陷，该凹陷位于该滑座内部中央，该凹陷用以承载该第一磁性组件。