[实用新型]超净高纯级氟化铵溶液制备装置

说明书

(一)技术领域

本实用新型涉及一种超净高纯级氟化铵溶液制备装置，属于电子化学品生产设备技术领域。

(二)背景技术

氟化铵溶液结构式为NH₄F，为无色透明液体，能强烈腐蚀含硅的物质，在电子化学品领域，主要用作硅片的腐蚀剂。氟化铵溶液主要由液氨、水和氟化氢反应配置而成，其中液氨采用工业级液氨。由于工业级液氨含有微量的非金属和金属杂质，其直接反应制得的氟化铵溶液其杂质含量高、纯度差，不能达到MOS(金属-氧化物-半导体)标准，即金属杂质含量小于100ppb，控制1微米粒径粒子达到SEMI C1C2标准要求，不能满足微电子领域使用要求。

(三)发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种能去除氟化铵溶液中非金属和金属杂质、能满足微电子领域使用要求的超净高纯级氟化铵溶液制备装置。

本实用新型的目的是这样实现的：一种超净高纯级氟化铵溶液制备装置，其特征在于：它包括液氨储罐、第一水洗桶、第二水洗桶、吸收桶、混合罐、过滤器、成品桶、氢氟酸桶、纯化水桶和水浴槽；

所述液氨储罐出口与第一水洗桶进口相连，所述第一水洗桶出口与第二水洗桶进口相连，所述第二水洗桶出口与吸收桶进口相连，所述吸收桶出口与混合罐进口相连，所述混合罐出口与过滤器进口相连，所述过滤器出口与成品桶相连；

所述吸收桶置于水浴槽中，所述吸收桶上连接有氢氟酸桶和纯化水桶。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型超净高纯级氟化铵溶液制备装置，将液氨汽化为氨气，再经二级水洗以除去金属与非金属杂质，然后，将经过处理的氨气通入吸收桶与氢氟酸溶液反应，并经过混合罐混合后，过滤分装制得超净高纯级氟化铵溶液，其能满足微电子领域使用要求。

(四)附图说明

图1为本实用新型超净高纯级氟化铵溶液制备装置的结构示意图。

其中：

液氨储罐1、第一水洗桶2、第二水洗桶3、吸收桶4、混合罐5、过滤器6、成品桶7、氢氟酸桶8、纯化水桶9、水浴槽10。

(五)具体实施方式

参见图1，本实用新型涉及的一种超净高纯级氟化铵溶液制备装置，主要由液氨储罐1、第一水洗桶2、第二水洗桶3、吸收桶4、混合罐5、过滤器6、成品桶7、氢氟酸桶8、纯化水桶9和水浴槽10组成；

所述液氨储罐1出口与第一水洗桶2进口相连，所述第一水洗桶2出口与第二水洗桶3进口相连，所述第二水洗桶3出口与吸收桶4进口相连，所述吸收桶4出口与混合罐5进口相连，所述混合罐5出口与过滤器6进口相连，所述过滤器6出口与成品桶7相连；

所述吸收桶4置于水浴槽10中，所述吸收桶4上连接有氢氟酸桶8和纯化水桶9。

使用时，液氨汽化为氨气，再经二级水洗以除去金属与非金属杂质，然后，将经过处理的氨气通入吸收桶与氢氟酸溶液反应，反应生成的热量通过水浴槽10中的冷却水带走，从而保持反应过程的平稳进行；再将反应后的氟化铵溶液经过混合罐混合后，过滤分装制得超净高纯级氟化铵溶液。