[实用新型]无氰化学镍钯金的生产线装置无效
申请号: | 201020259855.3 | 申请日: | 2010-07-14 |
公开(公告)号: | CN201738001U | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 梁继荣;董振华 | 申请(专利权)人: | 梁继荣 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氰化 学镍钯金 生产线 装置 | ||
1.一种无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征包括设有若干个缸体的机架,所述的缸体外的一侧设有排水管和排液管,缸体外的另一侧设有供气管、纯水管和自来水管;所述的排水管、排液管和供气管设有若干个支管与缸体的下端联接;所述的纯水管和自来水管设有若干个分管至缸体的上端。
2.根据权利要求1所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于所述的机架一侧设有滑轨,所述滑轨上设有可以滑动的滑台,滑台上固定联接有悬臂,所述悬臂的另一端设有挂勾。
3.根据权利要求2所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于所述的滑轨为燕尾槽式或T型槽式滑轨结构。
4.根据权利要求3所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于还包括用于装挂电路板的飞靶,所述缸体内对称的两个侧面设有用于搁置飞靶的凸台。
5.根据权利要求4所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于所述机架上设有的缸体依次为除油缸、热水洗1缸、水洗1缸、水洗2缸、微蚀缸、水洗3缸、水洗4缸、预浸缸、活化缸、纯水洗1缸、纯水洗2缸、化镍1缸、化镍2缸、回收1缸、纯水洗3缸、纯水洗4缸、纯金1缸、纯金2缸、回收2缸、热水洗2缸和纯水洗5缸。
6.根据权利要求5所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于所述机架的一端设有上下料槽。
7.根据权利要求6所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于所述的纯水洗2缸和化镍1缸之间设有过渡槽。
8.根据权利要求7所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于还包括控制器、与控制器联接的若干个缸体的位置传感器和滑台动力电机,所述的滑轨侧边设有齿条,还设有与滑台动力电机传动联接的齿轮组,所述齿轮组与齿条啮合。
9.根据权利要求8所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于所述的位置传感器包括除油缸传感器、热水洗1缸传感器、水洗1缸传感器、水洗2缸传感器、微蚀缸传感器、水洗3缸传感器、水洗4缸传感器、预浸缸传感器、活化缸传感器、纯水洗1缸传感器、纯水洗2缸传感器、化镍1缸传感器、化镍2缸传感器、回收1缸传感器、纯水洗3缸传感器、纯水洗4缸传感器、纯金1缸传感器、纯金2缸传感器、回收2缸传感器、热水洗2缸传感器、纯水洗5缸传感器和上下料槽传感器。
10.根据权利要求9所述的无氰化学镍钯金的生产线装置,其特征在于所述滑台设有用于与滑轨滚动配合的滚轮。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理