[实用新型]一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构无效
| 申请号： | 201020266259.8 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN201881232U | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 虞卫东 | 申请（专利权）人： | 浙江名媛工艺饰品有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/16 | 分类号： | B24B9/16;B24B41/02 |
| 代理公司： | 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 | 代理人： | 王鹏举 |
| 地址： | 322000 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 水钻 斜面 磨抛机 旋转 定位 机构 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，包括机架(7)和旋转架，其特征在于，所述旋转架上固定设置有定位盘(10)，定位盘(10)在旋转架上设有与水钻斜面磨抛机的若干个工位相对应的若干个定位销槽(96)，所述机架(7)上设有能够沿旋转架的径向移动的定位销(92)，定位销(92)一端与设置在机架(7)上的驱动装置连接，定位销(92)另一端能够与所述定位销槽(96)楔合。
2.根据权利要求1所述的一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，其特征在于，所述驱动装置为定位气缸(91)，定位气缸(91)的活塞杆与定位销(92)连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，其特征在于，所述定位盘(10)在定位销槽(96)位置设有检测定位销(92)到位状态的检测开关(94)。
4.根据权利要求1所述的一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，其特征在于，所述定位盘(10)上设有与水钻斜面磨抛机的若干个工位相对应的若干个缓冲器(95)，机架(7)上设有挡块气缸(97)，挡块气缸(97)的活塞杆上设置能够与缓冲器(95)相接触缓冲的挡块(98)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江名媛工艺饰品有限公司，未经浙江名媛工艺饰品有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020266259.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
