[实用新型]用于镭射钻孔的粘结片及使用其的镭射钻孔介质层有效

专利信息
申请号: 201020266643.8 申请日: 2010-07-21
公开(公告)号: CN201839517U 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 方东炜 申请(专利权)人: 广东生益科技股份有限公司
主分类号: H05K1/03 分类号: H05K1/03;B32B27/12
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 523000 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 用于 镭射 钻孔 粘结 使用 介质
【权利要求书】:

1.一种用于镭射钻孔的粘结片,其特征在于,包括:增强材料、涂覆于增强材料两面上的绝缘树脂层,该增强材料为无纺布或芳纶纸。

2.如权利要求1所述的用于镭射钻孔的粘结片,其特征在于,所述增强材料为15~50g/m2的无纺布或芳纶纸。

3.如权利要求1所述的用于镭射钻孔的粘结片,其特征在于,所述绝缘树脂层为树脂含量为30~90%的绝缘树脂层。

4.一种镭射钻孔介质层,其特征在于,包括数片相压合的粘结片,该粘结片包括增强材料、及涂覆于增强材料两面上的绝缘树脂层,该增强材料为无纺布或芳纶纸。

5.如权利要求4所述的镭射钻孔介质层,其特征在于,所述增强材料为15~50g/m2的无纺布或芳纶纸。

6.如权利要求4所述的镭射钻孔介质层,其特征在于,所述绝缘树脂层为树脂含量为30~90%的绝缘树脂层。 

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