[实用新型]一种单层贴屏式等离子显示器柔性滤光片

说明书

技术领域：

本实用新型涉及一种等离子显示器柔性滤光片，属于显示器件制造技术领域。 

背景技术：

等离子体显示器(PDP)容易被制成大尺寸的平板显示器，并且适合于高清晰度数字电视。然而，等离子体显示器由于等离子体发射产生电磁波，并且惰性气体氖气放电而导致Ne(氖)橙色光、近红外线的不必要发射。等离子显示器发射的电磁波对周围环境中的人或物体有害，并且近红外线还影响红外遥控和接收功能，而Ne橙色光引起等离子体显示器的色彩纯度降低。为了克服这些缺点，同时减少表面反射，并提高色彩纯度，在等离子体显示器的前面安装了滤光片。 

滤光片的基材主要分为玻璃基板和透明高分子基片。玻璃基板的滤光片大都采用2～3.5mm的钢化或半钢化玻璃板作为基材，这种玻璃板的比重为2.6，难以生产轻质滤光片，同时在PDP上加装滤光片，还会形成空气层，导致空气诱导入射线的双反射，降低对比度，并导致PDP显示器重量加大。透明高分子基片的滤光片主要采用厚度为75～250um的一层或两层轻质、耐热的高分子材料，如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纤维素(TAC)、聚醚砜(PES)或它们的混合物材料等作为基材。以透明高分子膜为基材的滤光片的优点是质量轻、厚度薄，而且可卷曲。 

现有技术的高分子膜滤光片大都为双层式结构，如图1所示，安装在PDP屏前玻璃基板上，装配结构见图2。滤光片是通过压敏胶(PSA)粘贴复合在PDP屏前玻璃基板上，滤光片通过导电胶带将滤光片的电磁屏蔽膜层引出部分与PDP前框的金属结构件相连接，于是由滤光片的电磁屏蔽膜层、导电胶带、PDP前框金属结构件、PDP金属后盖形成一个环形腔体并接地，而达到将电磁波辐射屏蔽的效果。这种安装结构要求滤光片的电磁屏蔽膜层引出部分在正面(面向观看者为正面)四周外露，以方便与PDP的金属结构件连接，提高生产装配工艺性。 

为了实现高分子膜滤光片电磁屏蔽膜层引出部分在滤光片正面四周外露，目前技术 的高分子膜滤光片通常采用两层高分子膜和两层粘结膜层的结构。图1是根据现有技术透明高分子膜为基材的滤光片的截面图。图1中A10、B10为透明高分子膜，A20为抗反射(AR)、增硬(HC)膜层，B30为电磁屏蔽(EMI)膜层，A50、B50为粘结膜层，其中在A50中加入了可以吸收Ne橙色光(Ne-cut)和吸收近红外线(Nir-cut)的颜料或染料，B40为电磁屏蔽膜层引出部分。 

AR、HC功能层A20、粘结膜层A50分别制备在高分子膜A10正面和背面构成A膜层，EMI功能层B30、粘结膜层B50分别制备在高分子膜A20正面和背面构成B膜层，A、B膜层通过粘结膜层A50粘结复合而成滤光片。为实现电磁屏蔽膜层引出部分正面四周外露，A膜层面积小于B膜层面积，使EMI层B30在滤光片正面的四周裸露出边框状区域形成EMI导出电极B40，或者在四周裸露出的边框状区域制备一层导电导电胶带或导电浆料制成EMI导出电极。A、B膜层复合，EMI导出电极制备后就得到具有电磁屏蔽、滤光功能的高分子膜滤光片。 

双层式结构滤光片与PDP屏的装配结构如图2所示：抗反射(AR)和/或增硬(HC)功能膜层A20通过涂布、磁控溅射等方式加工在高分子膜A10正面，在高分子膜A10背面涂布或粘接上掺有吸收580～600nm波长的Ne橙色光(Ne-cut)染料或颜料的粘结膜层A50，从而得到A膜层。采用光刻蚀法或印刷法制成的金属导电网格贴合在高分子膜B10正面上，或采用真空磁控溅射法在高分子膜B10正面上镀制多层的透明导电薄膜制成电磁屏蔽膜层B30，在高分子膜B10背面涂布上粘结膜层B50，从而得到B膜层。然后将A、B两膜层通过卷对卷或卷对片方式进行复合，裁切加工，得到电磁屏蔽膜层引出部分正面四周外露的高分子基材滤光片。 

由于现有技术的高分子膜滤光片采用两层高分子膜、两层粘结膜层的结构，在加工过程中，需要对两层高分子膜分别进行加工，然后再采取卷对卷(或卷对片)的复合加工过程，加工工序较多，工艺路线较长，使用的原材料较多，加工效率和良品率较低，综合成本较高。 

实用新型内容

实用新型目的： 

本实用新型的所要解决的技术问题是针对背景技术的不足和缺陷，提供一种单层贴屏式等离子显示器柔性滤光片，在单层高分子膜基底及单层粘结胶层上实现了PDP显示器所需要的抗反射、电磁屏蔽、Ne橙色光及近红外吸收、调色等功能。 

技术方案： 

本实用新型为实现上述实用新型目的采用如下技术方案：