[实用新型]石墨框周转装载车无效
申请号: | 201020287241.6 | 申请日: | 2010-08-07 |
公开(公告)号: | CN201762440U | 公开(公告)日: | 2011-03-16 |
发明(设计)人: | 滕息生 | 申请(专利权)人: | 常州亿晶光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 周祥生 |
地址: | 213200 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨 周转 装载 | ||
技术领域:
本实用新型涉及光伏电池生产过程中使用的工位器具,尤其涉及一种PECVD用石墨框的周转装载车。
背景技术:
PECVD是太阳能电池片等离子体化学沉积镀膜法的简称,在太阳能电池的生产过程中,对硅片镀膜是提高太阳能吸收效率的关键技术,根据硅片的光电转换发电原理,光线照射到硅片上存在反射,硅片的光学损失和复合损失都会使太阳能电池的输出低于理想值,对硅片表面进行镀膜处理是目前工业化生产应用层面上的成熟技术,目前,硅片镀膜多数采用平板式等离子体化学沉积法,即通过PECVD在硅片表面形成一层减反射膜。
太阳能电池镀膜设备的化学沉积镀膜原理是:在密闭的真空沉积源中装有多根真空石英管,在每根真空石英管中放有一根铜管,向沉积源中通入硅烷和氨气,再通过电控部分使真空石英管中的铜管发射出微波,在高温条件下,沉积源中的硅烷、氨气反应生成氮化硅,氮化硅会慢慢沉积在电池片表面上,从而实现硅片镀膜。由于氮化硅具有良好的减反射性能,因此在硅片的吸光面进行镀膜可以大幅度提高太阳能电池的吸光效率。
在整个沉积过程中,电池片被挂放于如图1所示的方形石墨框上的框格中,石墨框放置于沉积源上方,反应生成的氮化硅向上沉积于电池片表面,同时也有部分沉积在石墨框上,因此,在PECVD之后,需要将沉积在石墨框上的氮化硅去除。目前,将石墨框运送到下道清洗工序是靠人工搬运,然而由于在PECVD之后石墨框的温度较高,人工无法用手直接搬运,即使带上厚重的隔热手套,也忍受不了全程搬运的热量,必须等冷却之后再搬运,由于石墨框的平面尺寸较大,重量也不轻,一个人一次只能搬运二至三个石墨框,不仅劳动强度大,而且效率低。
实用新型内容:
本实用新型的目的是提供一种石墨框周转装载车,它不仅能在PECVD之后石墨框无需冷却直接搬运,而且一人一次就能轻松搬运几十个石墨框,劳动强度小,生产效率高。
本实用新型所采用的技术方案是:
本实用新型所述石墨框周转装载车,其特征是:它包括底部框架、后支撑框架、倾斜框架、前支撑柱和脚轮,底部框架水平放置,脚轮安装在底部框架的底部;后支撑框架、倾斜框架和前支撑柱均安装在底部框架的上表面,倾斜框架与底部框架之间的夹角为90°~150°,后支撑框架的高端与倾斜框架的高端固定连接,底部框架、后支撑框架和倾斜框架长度相同,且为石墨框边长的6/10~9/10,倾斜框架的宽度为石墨框边长的6/10~9/10,两个前支撑柱焊接在底部框架的外侧角上,其高度为30毫米~100毫米。
进一步,倾斜框架与底部框架之间的夹角为120°,底部框架、后支撑框架和倾斜框架长度相同,且为石墨框边长的9/10,倾斜框架的宽度为石墨框边长的7/10。
有了本实用新型,操作人员可以将石墨框周转装载车直接推到石墨框下线处,戴上隔热手套可以将刚下线的高温石墨框逐块搬放在底部框架和倾斜框架上,由于搬运是瞬间动作,高温石墨框不会炀伤操作人员的手,石墨框在PECVD之后,可以直接下线运到下道清洗工序,无需等石墨框冷却再搬运,这样不仅不影响镀膜生产,而且有利于降低镀膜车间的温度,同时,较高温度的石墨框在下道清洗工序中更利于清除沉积在石墨框上的氮化硅。搬运石墨框的工作一个人就能独立完成,且一次可运输几十块石墨框,不仅搬运劳动强度低,而且搬运效率高。
附图说明:
图1为石墨框的结构示意图;
图2为本实用新型的结构示意图。
图中:1-底部框架;2-后支撑框架;3-倾斜框架;4-前支撑柱;5-脚轮。
具体实施方式:
下面结合附图说明本实用新型的具体实施方式:
本实用新型所述石墨框周转装载车,如图2所示,它由底部框架1、后支撑框架2、倾斜框架3、前支撑柱4和脚轮5组成,底部框架1水平放置,脚轮5安装在底部框架1的底部;后支撑框架2、倾斜框架3和前支撑柱4均安装在底部框架1的上表面,倾斜框架3与底部框架1之间的夹角为120°,后支撑框架2的高端与倾斜框架3的高端固定连接,底部框架1、后支撑框架2和倾斜框架3长度相同,且为石墨框边长的9/10,倾斜框架3的宽度为石墨框边长的6/10,两个前支撑柱4焊接在底部框架1的外侧角上,其高度为50毫米。
本实用新型的实施方式很多,倾斜框架3与底部框架1之间的夹角在90°~150°之间均可,底部框架1、后支撑框架2和倾斜框架3长度相同,且为石墨框边长的6/10~9/10,倾斜框架3的宽度为石墨框边长的6/10~9/10均可。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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