[实用新型]液晶显示装置有效
申请号: | 201020293975.5 | 申请日: | 2010-08-17 |
公开(公告)号: | CN201804187U | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 户卫民;曾贵权;林浩佳 | 申请(专利权)人: | 天马微电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦;李庆波 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种液晶显示装置,尤其涉及一种负性显示无源液晶显示装置。
背景技术
液晶显示装置因具有低辐射性、体积轻薄短小及耗电低等特点,已被广泛应用于手机、个人数字助理、笔记本电脑、个人电脑及电视等领域。
目前,负性显示无源液晶显示装置在不通电情况下的显示状态是不透明的,通电情况下的显示状态是透明的,在背光显示效果也是黑底白字的显示,这种显示模式要求在不通电时,液晶显示装置的底色最好是均匀的黑色。
现有技术中,用于制作柱状间隔物(Post Spacer)的材料一般都是透明的,所以用于负性显示液晶显示装置时,在不通电的底色状态下柱状间隔物通常会出现漏光现象,使得整个液晶显示装置看起来有很多麻点,影响了液晶显示装置的外观品质。
实用新型内容
针对现有液晶显示装置外观品质较差的问题,本实用新型提供一种外观品质较好的液晶显示装置。
一种液晶显示装置,其包括一基板,该液晶显示装置包括多个柱状间隔物和黑色矩阵,该柱状间隔物和该黑色矩阵叠合设置在该基板表面。
优选地,该黑色矩阵设置在该基板表面,该柱状间隔物设置在该黑色矩阵表面。
优选地,该柱状间隔物设置在该基板表面,该黑色矩阵设置在该柱状间隔物表面。
优选地,该柱状间隔物为透明材料。
优选地,该黑色矩阵为吸光材料。
优选地,该液晶显示装置为负性显示无源液晶显示装置。
在本实用新型液晶显示装置中,该柱状间隔物叠合设置在该黑色矩阵的表面,或者该黑色矩阵叠合设置在该柱状间隔物的表面,当该柱状间隔物为透明材料时,该黑色矩阵可以起吸光作用,从而避免该液晶显示装置在不通电状态下出现麻点现象,对应提高了该液晶显示装置的外观品质。
附图说明
图1是本实用新型液晶显示装置第一实施方式的柱状间隔物的结构示意图。
图2是图1所示柱状间隔物的一种制作工艺在基板上形成黑色矩阵材料层的结构示意图。
图3是图2步骤后形成柱状间隔物材料层的结构示意图。
图4是图3步骤后形成柱状间隔物的结构示意图。
图5是图1所示柱状间隔物的另一种制作工艺在基板上形成黑色矩阵材料层的结构示意图。
图6是图5步骤后形成黑色矩阵的结构示意图。
图7是图6步骤后形成柱状间隔物材料层的结构示意图。
图8是本实用新型液晶显示装置第二实施方式中的柱状间隔物的结构示意图。
图9是图8所示柱状间隔物的一种制作工艺在基板上形成柱状间隔物材料层的示意图。
图10是图9步骤后形成黑色矩阵材料层的结构示意图。
图11是图10步骤后形成柱状间隔物的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进行说明。
请参阅图1,图1是本实用新型液晶显示装置第一实施方式的柱状间隔物的结构示意图。该液晶显示装置1为负性显示无源液晶显示装置,其包括基板10、黑色矩阵16和多个柱状间隔物15。该基板10为透明基板,例如玻璃基板。该黑色矩阵16设置在该基板10的表面,该柱状间隔物15叠合设置在该黑色矩阵16的表面。其中,该柱状间隔物15为透明材料,该黑色矩阵16为吸光材料。
请参阅图2至图4,其中,图1所示的这种结构可以通过以下步骤制作:
步骤一,准备一基板10,将该基板10依次经过碱液清洗、毛刷清洗、清水清洗、高压喷淋、风刀、红外干燥、和紫外线处理等,以使该基板10达到清洁、平整的要求。
步骤二,在经过步骤一处理的该基板10表面涂覆黑色矩阵材料形成该黑色矩阵材料层11,如图2所示。
步骤三,在经过步骤二处理的该基板10的该黑色矩阵层11上涂覆柱状间隔物材料。
步骤四,经过步骤三处理的该基板10通过机械手臂被搬运到可高速旋转的圆形转盘,并且通过真空吸附的方式被固定在圆形转盘上,然后,转盘以设定的速度进行高速旋转,利用离心力的作用使涂覆于该黑色矩阵材料层11上的柱状间隔物材料向四周扩散,从而使该黑色矩阵材料层11表面的该柱状间隔物材料达到预定的厚度,形成柱状间隔物材料层13,如图3所示。
步骤五,经过步骤四处理的该基板10通过机械手臂被搬运入低温烘箱设备,使该柱状间隔物材料层13初步干燥增加其与该黑色矩阵材料层11之间的粘附性。
步骤六,形成该柱状间隔物材料层13和该黑色矩阵材料层11的该基板10通过曝光装置,使用柱状间隔物掩膜板(PS Mask)曝光,被曝光区域的柱状间隔物材料和黑色矩阵材料会发生光化学反应。
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