[实用新型]含银低辐射玻璃有效
| 申请号： | 201020503102.2 | 申请日： | 2010-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN201825868U | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 陈可明;曾小绵 | 申请（专利权）人： | 中国南玻集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 518047 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含银低 辐射 玻璃 | ||
1.一种含银低辐射玻璃，其特征在于，该玻璃膜层结构依次为：玻璃基片、基层电介质组合层、第一银层、第一阻挡层、第一隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第二隔层电介质组合层、第三银层、第三阻挡层、第三隔层电介质组合层、第四银层、第四阻挡层、上层电介质组合层。
2.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述基层电介质组合层厚度为25～27nm。
3.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一阻挡层、第二阻挡层、第三阻挡层、第四阻挡层厚度为0.25～0.3nm。
4.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一隔层电介质组合层厚度为67～69nm；所述第二隔层电介质组合层厚度为69～71nm；所述第三隔层电介质组合层厚度为71～73nm。
5.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述上层电介质组合层厚度为24～27nm。
6.如权利要求1～5中任一项所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一银层、第二银层、第三银层、第四银层在厚度上满足：第一银层厚度小于第二银层、第二银层厚度小于第三银层、第三银层厚度小于第四银层。
7.如权利要求6所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一银层厚度为7～8nm；第二银层厚度为11～12nm；第三银层厚度为12～13nm；第四银层厚度为13～14nm。
8.如权利要求1所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述上层电介质组合层包括沉积于所述第四阻挡层上的第一上层电介质组合层和沉积于所述第一上层电介质组合层上的第二上层电介质组合层。
9.如权利要求8所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一上层电介质组合层的厚度为15～16nm。
10.如权利要求8或9所述的含银低辐射玻璃，其特征在于，所述第二上层电介质组合层的厚度为9～11nm。
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