[实用新型]改进的数控硅块双平面研磨机有效
申请号: | 201020513100.1 | 申请日: | 2010-09-01 |
公开(公告)号: | CN202106294U | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 杨建良 | 申请(专利权)人: | 无锡上机数控股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04 |
代理公司: | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人: | 顾吉云 |
地址: | 214128 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改进 数控 硅块双 平面 研磨机 | ||
1.一种改进的数控硅块双平面研磨机包括床身、工作台、滑鞍、滑板、磨头,所述床身中间有直线导轨、滚珠丝杆,所述工作台安装在直线导轨、滚珠丝杆上,所述滑鞍有一对,安装在床身左右两边,所述滑鞍上有直线导轨、滚珠丝杆,所述滑板通过直线导轨、滚珠丝杆安装在所述滑鞍上,所述磨头分别安装在滑板上,其特征在于:所述磨头包括金刚砂精磨磨头、金刚毛刷柔性研磨磨头,所述金刚砂精磨磨头、金刚毛刷研磨磨头沿着所述数控硅块双平面研磨机进料方向依次布置。
2.根据权利要求1所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述金刚砂精磨磨头有一对。
3.根据权利要求1或2所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述研磨磨头有两对。
4.根据权利要求3所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述两对研磨磨头的所述研磨盘分别为两套不同金刚砂粒度的组合式金刚毛刷柔性研磨盘。
5.根据权利要求4所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述金刚毛刷由尼龙与金刚砂混合制成。
6.根据权利要求5所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述滑板有三对,安装在床身左右两边的所述滑鞍上。
7.根据权利要求6所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述研磨盘包括三套不同金刚砂粒度的组合式金刚毛刷柔性研磨盘。
8.根据权利要求7所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述工作台上安装有自动压紧装置。
9.根据权利要求8所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述床身前部安装一套自动对中装置。
10.根据权利要求9所述一种改进的数控硅块双平面研磨机,其特征在于:所述床身前部靠后位置安装一套激光自动测量装置。
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