[实用新型]用于电子助视器的光学装置有效

专利信息
申请号: 201020514174.7 申请日: 2010-09-01
公开(公告)号: CN201795428U 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 王林梓 申请(专利权)人: 北京奥美达科技有限公司
主分类号: F21V7/10 分类号: F21V7/10;F21V17/00;F21V19/00;F21Y101/02
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100044 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 电子 助视器 光学 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及光学照明领域,尤其涉及一种用于电子助视器的光学装置。

背景技术

现有技术的电子助视器的光源采用漫反射,其优点是光源出射均匀,而缺点是:在景深范围内,照度分布不均匀,即在一定的工作距离,照度降低严重,均匀性也不好。这是因为光源经过漫反射后,相当于发光角为180度的面光源,光源照度与出射距离的平方成反比,发散角越大,照度降低越严重。

现有电子助视器的光源的另一个缺点是存在眩光点现象。这是由于光源之间设置的距离较近,导致在景深范围内,当观看类似铜版纸的观察物时,会出现眩光点现象,所以影响观察。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型所解决的技术问题是:如何使电子助视器光源的照度分布均匀,并且消除眩光点,从而可以使用电子助视器可以更好地进行观察。

(二)技术方案

为了达到上述目的,本实用新型提出了一种用于电子助视器的光学装置,包括:

反射支架,所述反射支架设置有凹槽,所述凹槽的开口为方形,所述凹槽的相对侧为垂直于水平面的第一方形侧面和与水平面呈45度延伸的第二方形侧面;

平面反射镜,所述平面反射镜固定在所述第二方形侧面上;

两个光源板,所述光源板设置在沿所述第一方形侧面延伸方向的所述反射支架的相对侧;

四个LED光源,每个所述光源板上各设置两个所述LED光源,并且四个所述LED光源沿所述方形开口的四个边平行的方向设置;

摄像头模组,所述摄像头模组设置于所述第一方形侧面的中心,并朝向所述平面反射镜。

其中,所述光源板向所述凹槽的开口倾斜并且与水平面所呈的角度在55度-65度的范围内。

其中,在同一所述光源板上的两个所述LED光源之间的距离是25mm。

其中,在不同所述光源板上的沿所述凹槽的开口平行设置的两个所述LED光源之间的距离是40mm。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有如下优点:通过使用平面反射镜而采用了反射式光路,并且利用LED光源进行直接照明,使得照度分布均匀;通过使光源板倾斜而采用倾斜照明方式,使得光源之间的设置更远,从而解决了眩光点的问题。

附图说明

图1为本实用新型的用于电子助视器的光学装置的实施例的结构示意图。

其中:1:反射支架;2:凹槽;3:第一方形侧面;4:平面反射镜;5:光源板;6:LED光源;7:摄像头模组。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型的技术方案,下面结合附图作进一步的说明。

如图1所示,为本实用新型的用于电子助视器的光学装置的实施例的结构示意图,该光学装置包括:反射支架1,反射支架1设置有凹槽2,凹槽2的开口为方形,凹槽2的两个相对侧为垂直于水平面的第一方形侧面3和与水平面呈45度延伸的第二方形侧面(未示出);平面反射镜4,平面反射镜4通过背胶固定在所述第二方形侧面上;两个光源板5,两个光源板5分别设置在沿第一方形侧面3延伸方向的反射支架1的相对侧;四个LED光源6,每个光源板5上各设置两个LED光源6,并且四个LED光源6沿方形开口的四个边的平行方向设置,两个光源板5向凹槽2的开口倾斜并且与水平面所呈的角度在55度-65度范围内;摄像头模组7,摄像头模组7设置在第一方形侧面3的大致中心位置,并且朝向平面反射镜4,使得观察物反射的经反射镜4反射的光可以入射到摄像头模组7中,从而可以在助视器上显示观察物的图像。

在本实用新型的用于电子助视器的光学装置的实施例中,在同一光源板5上的两个LED光源6之间的距离是25mm,在不同光源板5上的沿凹槽2的开口平行设置的两个LED光源6之间的距离是40mm。

本实用新型的用于电子助视器的光学装置由于使用了平面反射镜,而采用了反射式光路,因此减少了LED光源到观察物的距离,从而提高了LED光源的利用率。同时本实用新型的用于电子助视器的光学装置采用了LED光源直接照射的方式,从而在整个景深范围内得到较好的均匀的照度。

而且,本实用新型的用于电子助视器的光学装置的不同光源板上的LED光源之间的距离较大,并且通过倾斜光源板而采用了倾斜LED光源照明的方式,从而解决了眩光点问题。

以上所述仅是本实用新型的实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。

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