[实用新型]可异地加工的低辐射玻璃有效
申请号: | 201020515451.6 | 申请日: | 2010-09-01 |
公开(公告)号: | CN201817405U | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 林嘉宏 | 申请(专利权)人: | 林嘉宏 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林;严志平 |
地址: | 215321 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 异地 加工 辐射 玻璃 | ||
1.一种可异地加工的低辐射玻璃,包括浮法玻璃和镀膜层,其特征在于,镀膜层包括以浮法玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第一保护层、Ag层、第二保护层、第二电介质层和第三电介质层。
2.根据权利要求1所述的可异地加工的低辐射玻璃,其特征在于,所述的第一电介质层和第二电介质层的材料分别选自Si3N4、SiNxOy、TiO2、ZAO、ZnSnOx、SnO2、ZnO2、SiO2、Ta2O5、BiO2、ZnAl2O5、Nb2O5中的一种。
3.根据权利要求1所述的可异地加工的低辐射玻璃,其特征在于,所述的第三电介质层的材料为ZrO2。
4.根据权利要求1所述的可异地加工的低辐射玻璃,其特征在于,所述的第一保护层、第二保护层的材料分别选自NiCr、NiCrOx、NiCrNx、CrNx,ZAO中的一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于林嘉宏,未经林嘉宏许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020515451.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。