[实用新型]图像引导放射治疗设备校准装置有效

专利信息
申请号: 201020521056.9 申请日: 2010-09-08
公开(公告)号: CN201775872U 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 盛晔;付东山 申请(专利权)人: 盛晔;付东山
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10;A61N5/00
代理公司: 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人: 傅靖
地址: 100081 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 图像 引导 放射 治疗 设备 校准 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种医疗设备,特别涉及一种图像引导放射治疗设备校准装置。

背景技术

图像引导放射治疗设备能精确确定病人病灶三维坐标,因而能进行精确放射治疗,从而降低了放射疗法对病人身体的伤害,因此越来越广泛的被推广应用。图像引导放射治疗设备的精确定位需要提供高精度的基准标高的校准装置,目前校准装置均为设于图像引导放射治疗设备底座上的校准杆,校准杆的顶点为图像引导放射治疗设备的基准点,由于加工设备精度的限制,因此现有校准杆的精度有限,同时由于每次加工情况各异,导致每根校准杆的误差大小不一,因此同型号设备的精度也难以保证一致,如要利用设备加工更高精度的校准杆,则生产成本会大大提高。

实用新型内容

为解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种精度高、成本低的图像引导放射治疗设备校准装置。

为达到上述目的,本实用新型的技术方案是:一种图像引导放射治疗设备校准装置,包括依次连接在一起的头部、主体和连接部,所述连接部套设或旋接于所述图像引导放射治疗设备的底座上设有的孔洞或螺孔中,所述图像引导放射治疗设备校准装置还设有高度微调装置,所述高度微调装置设有与所述连接部匹配的通孔,并套设于所述连接部上,位于所述主体与所述图像引导放射治疗设备的底座之间。

优选的,所述头部包括锥体形颈部和基准球,所述锥体形颈部顶端设有一螺杆或螺孔,所述基准球设有与所述螺杆或螺孔匹配的螺孔或螺杆,所述基准球旋接于所述锥体形颈部上。

优选的,所述高度微调装置为至少一个环形垫片。

优选的,所述环形垫片内壁加工有与所述连接部螺纹匹配的内螺纹,所述环形垫片旋接于所述连接部上。

采用本技术方案的有益效果是:在主体与所述图像引导放射治疗设备的底座之间设置高度微调装置,即可方便的调整图像引导放射治疗设备校准装置的基准标高,从而为图像引导放射治疗设备提供精确的基准标高。

附图说明

图1是本实用新型一种图像引导放射治疗设备校准装置施例1的示意图;

图2是本实用新型一种图像引导放射治疗设备校准装置实施例2的示意图。

图中数字和字母所表示的相应部件名称:

1.头部 11.基准球 12.锥体形颈部 2.主体 3.高度微调装置4.连接部 5.图像引导放射治疗设备的底座

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

实施例1,

如图1所示,一种图像引导放射治疗设备校准装置,包括依次连接在一起的头部1、主体2和连接部4,连接部4套设或旋接于图像引导放射治疗设备的底座5上设有的孔洞或螺孔中,图像引导放射治疗设备校准装置还设有高度微调装置3,高度微调装置3设有与连接部4匹配的通孔,并套设于连接部4上,位于主体1与所述图像引导放射治疗设备底座5之间。头部1包括锥体形颈部12和基准球12,锥体形颈部12顶端设有一螺杆或螺孔,基准球11设有与螺杆或螺孔匹配的螺孔或螺杆,基准球11旋接于锥体形颈部12上。

高度微调装置3为一个环形垫片。

本实施例的优点是,可先行加工头部1、主体2和连接部4,加工完毕后,上述部件的尺寸就已经确定,因为基准高度设于头部1的基准球11的球心,因此可测得现有基准高度为球半径加上圆锥形颈部高度,再加上主体高度,即为基准高度a,该基准高度a和标准基准高度的差值即为b,因此根据b值精确加工作为高度微调装置3的环形垫片,即可大大降低加工难度和加工成本,并大大提高了基准高度的精度。

同时,采用基准球11的球心作为基准点,可以使基准点更准确,比采用锥形顶尖作为基准点更利于计算机的采集和计算,另外,该基准球11可以更换不同的直径,以满足图像不同放大倍数的基准要求,更加方便实用,更换不同直径的基准球11后,仅需改变高度微调装置3的高度(即厚度),既可以方便的调整,而不需要将校准装置全部更换。

实施例2,

其余与实施例1相同,不同之处在于,高度微调装置3是按照需要制作一系列标准尺寸的环形垫片,这些标准尺寸的环形垫片涵盖了不同的误差等级,每一个等级可以根据需要制作1到9片,以便各等级的环形垫片组合可以得到需要的高度。这样可提高设备的通用性,也方便配合不同直径基准球11的更换。

上述实施例中,环形垫片内壁也可加工有与连接部4螺纹匹配的内螺纹,环形垫片旋接于连接部4上。

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