[实用新型]曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光机。

技术背景

曝光机主要用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求，传统的曝光机的曝光箱盖与曝光箱不能做到紧密贴合，导致曝光精度不够。

实用新型内容

本实用新型提供一种曝光箱盖与曝光箱能紧密贴合、提供曝光精度的曝光机。

本实用新型为解决技术问题提供如下方案：

一种曝光机，包括机架、曝光机箱、曝光箱盖，在所述曝光机箱内有曝光灯管，其特征在于：所述曝光机箱与曝光箱盖之间设密封橡胶圈，所述曝光箱上表面为透明玻璃面，在所述玻璃面上开设小孔，从小孔中穿一根细软的橡胶管，所述橡胶管一端连接曝光箱内部的抽真空机，另一端放置在玻璃面上，当机箱盖与机箱贴合时，抽真空机开始工作，将箱盖与箱体之间抽成真空，使得曝光箱盖与曝光箱贴合的更紧密，进一步提高曝光精度。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

参见附图，一种曝光机，包括机架1、曝光机箱2、曝光箱盖3，在所述曝光机箱2内有曝光灯管4，所述曝光机箱2与曝光箱盖3之间设密封橡胶圈5，所述曝光机箱2上表面为透明玻璃面6，在所述玻璃面上开设小孔7，从小孔7中穿一根细软的橡胶管8，所述橡胶管8一端连接曝光机箱2内部的抽真空机9，另一端放置在玻璃面上6，当机箱盖3与曝光机箱2贴合时，抽真空机开始工作，将曝光箱盖3与曝光机箱之间抽成真空，使得曝光箱盖3与曝光机箱2贴合的更紧密，进一步提高曝光精度。