[实用新型]一种可加强石英坩埚清洗能力的装置无效
申请号: | 201020534695.9 | 申请日: | 2010-09-16 |
公开(公告)号: | CN201842775U | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 杨业林;陈宝昌 | 申请(专利权)人: | 扬州华尔光电子材料有限公司 |
主分类号: | C03C23/00 | 分类号: | C03C23/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 徐激波 |
地址: | 225600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 加强 石英 坩埚 清洗 能力 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种石英坩埚清洗装置,特别是对石英坩埚上口边缘与承载装置接触部位有较强清洗能力的专用装置。
背景技术
石英坩埚是制备太阳能硅单晶的重要消耗性器件,其表面洁净程度的高低,杂质含量的多少,对硅单晶纯度及电学性能有着重大影响。过去在石英坩埚成品的清洗工艺中,因考虑到石英坩埚稳定性需要,承载装置常做成光滑的平面转盘,石英坩埚倒置在上面时,上口边缘与承载平面转盘接触严密,相互间的吸附力强。但这种光滑的平面转盘容易导致石英坩埚上口边缘与平面转盘的接触部位变成清洗的死角,成为石英坩埚内外表面清洗冲淋下来的杂质富集区域,石英坩埚烘干处理后,上口边缘残留杂质较多。使用这种石英坩埚制备太阳能硅单晶时,在高温环境下,这些杂质将随着单晶炉内的气流被带入熔融硅液中,污染了硅原料,严重影响了硅单晶的纯度。
发明内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足,提供一种可加强石英坩埚清洗能力的装置。
本实用新型采用的技术方案是:一种可加强石英坩埚清洗能力的装置,包括支撑模块一、支撑模块二、配合件、组合喷淋头和支撑爪,所述支撑模块一和支撑模块二围绕组合喷淋头设置,支撑模块一和支撑模块二之间通过配合件连接,支撑模块一和支撑模块二上分别安装有支撑爪,支撑爪上设置有凹槽。
作为优选,所述支撑模块一和支撑模块二上分别安装有三个支撑爪。
作为优选,所述支撑模块一和支撑模块二由BPU材料制成。
本实用新型关键组成是两组承载石英坩埚的支撑模块,支撑模块由环保耐磨的BPU材料制成,BPU材料的良好弹性可保证石英坩埚在清洗过程中,在倒置状态下保持良好的稳定性和安全性。每组支撑模块有三只伸出的支撑爪,上有凹槽,可承接清洗喷淋头喷出的纯水,始终处于溢流状态,能对石英坩埚与支撑爪接触部位进行溢流漂洗。两组支撑模块在垂直方向上通过液压系统可变换位置。
清洗过程中,其中一组支撑模块升至高位位置,承载倒置的石英坩埚,另一组支撑模块处于低位位置,根据设定的间隔时间,两组支撑模块在液压系统作用下实现位置互换,即低位支撑模块升至高位,接替承载石英坩埚,高位支撑模块降至低位。保证石英坩埚上口边缘与支撑模块相接触的部位得到冲淋清洗,彻底解决石英坩埚上口边缘清洗死角难题。
有益效果:本实用新型承载石英坩埚的支撑模块选用无毒环保、耐磨、弹性较好的BPU材料制成,具有良好的防撞性能,可减小石英坩埚与支撑模块相接触形成的后天应力。BPU材料良好的弹性,可增强承载的稳定性和安全性,能有效防止转盘旋转过程中石英坩埚产生位移。每组支撑模块的三个支撑爪上有内凹槽,在减小石英坩埚上口边缘与支撑模块接触面积的同时,利用支撑爪内凹槽的溢流对石英坩埚与支撑爪接触过的部位进行溢流冲洗。通过两组支撑模块的上下位置互换,可在清洗过程中实现升降切换,彻底消除整个系统的清洗死角。
附图说明
附图为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明:
如附图所示:一种可加强石英坩埚清洗能力的装置,包括支撑模块一1、支撑模块二2、配合件3、组合喷淋头4和支撑爪5,所述支撑模块一1和支撑模块二2围绕组合喷淋头4设置,支撑模块一1和支撑模块二2之间通过配合件3连接,支撑模块一1和支撑模块二2上分别安装有支撑爪5,支撑爪5上设置有凹槽。
所述支撑模块一1和支撑模块二2上分别安装有三个支撑爪5。所述支撑模块一1和支撑模块二2由BPU材料制成。
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