[实用新型]真空多弧离子镀膜机有效
| 申请号： | 201020539482.5 | 申请日： | 2010-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN201793722U | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 林锡强;陈孝田 | 申请（专利权）人： | 温州市佳能真空电镀设备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 离子 镀膜 | ||
【权利要求书】：
1.真空多弧离子镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的若干个弧源装置，弧源装置包括与真空室体固定连接的法兰、设于法兰上的引弧装置和阴极水套、装在阴极水套上的靶材、设于靶材上方的磁铁，其特征在于：在阴极水套上插入固定连接的磁铁缸体，磁铁缸体的上端固定连接磁缸调节套，磁缸调节套上设有螺纹连接的调节螺杆，磁铁与调节螺杆的里端固定连接，磁铁置于磁铁缸体中。
2.根据权利要求1所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述的磁铁由若干块永磁体环形间隔排列而成。
3.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述的阴极水套与法兰径向固定连接，轴向活动连接。
4.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述的阴极水套中的冷却水与靶材直接接触。
5.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述的引弧装置包括引弧气缸、绝缘套和引弧杆，引弧气缸和绝缘套与法兰固定连接，引弧杆与绝缘套径向固定连接，轴向活动连接，引弧杆与引弧气缸的活塞杆固定连接。
6.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述的弧源装置的电源为脉冲电源。
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