[实用新型]非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 201020540460.0 申请日: 2010-09-25
公开(公告)号: CN201801589U 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 陈五奎;李文江;任陈平;刘强;黄振华 申请(专利权)人: 深圳市拓日新能源科技股份有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/24
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 非晶硅 薄膜 等离子体 增强 化学 沉积 设备
【权利要求书】:

1.一种非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,包括一等离子腔体、加热系统、气路系统、真空系统、供电系统、夹具,其特征在于:所述等离子腔体为可密闭的圆筒形单腔室,与真空系统及气路系统相连,所述夹具置于所述等离子腔体内,所述加热系统为一设有加热器的油箱,设置于所述等离子腔体下方,所述供电系统由多个控制单元组成,所述夹具上设有多个供电端口,该多个控制单元分别与该多个供电端口一一对应相连接。

2.根据权利要求1所述的非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于:所述夹具包括由两侧板、一前挡板和一后盖构成的金属外壳,所述金属外壳围合形成的腔体内设有一气路板、复数个电极,所述两侧板、前挡板、后盖、气路板相互两两绝缘连接,所述复数个电极由多个导电平板排列而成,与所述两侧板平行,且与所述两侧板共同构成电极,相邻两电极之间的空间为放置待沉积电池基板的位置,所述气路板上具有均匀分布的通孔,于所述前挡板上,设有多个可采用非干扰式供电的电极端口。

3.根据权利要求1或2所述的非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于:在所述等离子腔体的侧面配合设置一腔门,所述腔门与所述等离子腔体之间设有互锁装置。

4.根据权利要求2所述的非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于:所述夹具的电极两个一组与所述供电端口分别单独联接。

5.根据权利要求1或2或4任一项所述的非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于:所述等离子腔体内靠底部位置在腔室的长度方向上设有导轨,所述夹具的底部设置有复数个车轮,并与所述导轨相配合。

6.根据权利要求3所述的非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于:所述等离子腔体内靠底部位置在腔室的长度方向上设有导轨,所述夹具的底部设有复数个车轮,并与所述导轨相配合。

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