[实用新型]可异地加工的低辐射玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜玻璃，尤其是涉及一种可异地加工的低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是通过磁控真空溅射的方法,在优质浮法玻璃表面均匀地镀制包括银层在内的多层金属或金属氧化物（氮化物）的膜系产品,此种产品，极大地降低了浮法玻璃表面的辐射率.并提高了对光谱的选择性。

但是，传统的低辐射镀膜玻璃，其膜层结构及选用的材料通常为Glass/Si3N4/NiCr/Ag /NiCr/ Si3N4 或 Glass/Si3N4/NiCr/Ag /CrNx/ Si3N4， 

上述结构适合生产遮阳型单银低辐射镀膜玻璃，但生产高透型低辐射镀膜玻璃时就无法避免产品的抗氧化性能与低辐射性能之间的矛盾，因为如果要提高抗氧化性能就势必保证金属保护层的厚度不能太薄，但这样就会损失可见光的透过，达不到高透的效果；而如果保证金属保护层厚度不变，通过降低银层的厚度来提高可见光透过的话又会降低低辐射的性能，即使增加Si3N4电介质膜层的厚度（甚至超过40nm）,也无法达到理想的效果。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种能有效降低玻璃表面的反射率、并提高玻璃对可见光透过的可异地加工的低辐射镀膜玻璃。

本实用新型是通过以下技术方案来实现的：

一种可异地加工的低辐射镀膜玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，镀膜层包括以浮法玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第一保护层、Ag层、第二保护层和第二电介质层，其中第一电介质层和第二电介质层的材料为Si₃N₄，其特征在于，所述的第一保护层和第二保护层的材料为ZrO2。

本实用新型的有益效果是：本实用新型通过采用ZrO2材料的氧化物膜层取代金属膜层作保护层，简化了工艺步骤，降低了生产成本，而最重要的是，本实用新型极大地降低了玻璃表面的辐射率，并提高了玻璃对可见光透过，且具有较强的抗机械擦伤性能，使产品性能达到了最佳。 

附图说明

图1为本实用新型一实施例的结构示意图。

图中主要附图标记含义为：

1、浮法玻璃           2、第一电介质层      3、第一保护层  

4、Ag层               5、第二保护层        6、第二电介质层。

具体实施方式

下面将结合附图，详细说明本实用新型的具体实施方式：

图1为本实用新型一实施例的结构示意图。

如图1所示：可异地加工的低辐射镀膜玻璃，包括浮法玻璃1和镀膜层，其中，镀膜层包括以浮法玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层2、第一保护层3、Ag层4、第二保护层5和第二电介质层6，其中第一电介质层2和第二电介质层6的材料为Si₃N₄，而所述的第一保护层3和第二保护层5的材料为ZrO2。

此外，本实用新型的生产工艺为：首先选用新鲜的浮法玻璃1，然后通过清洗机清洗达到要求后，按顺序依次镀制第一电介质层2、第一保护层3、Ag层4、第二保护层5和第二电介质层6，最后经喷塑胶粉粒处理后用PE布密封包装。

更为具体的是：其中的第一电介质层2和第二电介质层6是通过双旋转阴极、中频磁控溅射形成，其中溅射条件为:背景真空度在10^-6mbar条件下,充入Ar和N2的混合气体, 保持真空度在10^-3mbar左右。

而第一保护层3和第二保护层5通过平面阴极溅射形成，其中溅射条件为:背景真空度在10^-6mbar条件下,充入Ar和反应气体O2的混合气体, 然后保持真空度在10^-3mbar左右。

而Ag层4是通过平面阴极溅射形成，其中溅射条件为:背景真空度在10^-6mbar条件下,充入Ar，然后保持真空度在10^-3mbar左右。

具体实施例1：

第一电介质层2和第二电介质层6选用Si₃N₄，其中第一电介质层2的膜层厚度为32nm～33nm，而第二电介质层6的膜层厚度为34nm～35nm，而第一保护层3和第二保护层5选用ZrO2，其中第一保护层3的膜层厚度为3.2nm～3.4nm，而第二保护层5的膜层厚度为3.3nm～3.5nm，此外，Ag层4的膜层厚度为13nm～14nm。