[实用新型]硅片清洗槽水位控制装置无效
| 申请号： | 201020546554.9 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN201859354U | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 屈莹;郝子龙;何垚;梁雪美 | 申请（专利权）人： | 常州亿晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G05D9/12 | 分类号： | G05D9/12;B08B3/00 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 周祥生 |
| 地址： | 213200 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硅片 清洗 水位 控制 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种硅片清洗槽水位控制装置，它包括清洗槽(1)和进水阀(2)，其特征是：它还包括透明观察管(3)，透明观察管(3)的底部与清洗槽(1)的底部相通连，透明观察管(3)的高度与清洗槽(1)的高度一致。
2.根据权利要求1所述硅片清洗槽水位控制装置，其特征是：它还包括低位光电开关(4)、高位光电开关(5)和控制进水阀(2)的电磁换向阀(6)，最高水位标记(B)和最低水位标记(A)设置在透明观察管(3)上，低位光电开关(4)对应透明观察管(3)上的最低水位标记(A)，高位光电开关(5)对应透明观察管(3)上的最高水位标记(B)，电磁换向阀(6)分别与低位光电开关(4)和高位光电开关(5)电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州亿晶光电科技有限公司，未经常州亿晶光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020546554.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种机械设备振动噪音监听器
- 下一篇：翻斗式原油计量装置
