[实用新型]单面腐蚀酸制绒设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及硅电池片制作技术领域，特别是一种单面腐蚀酸制绒设备。

背景技术

目前的制绒方法和制绒设备是硅片完全浸泡在腐蚀药液内，达到去除硅片损伤层及制绒的效果。但是扩散使用的是单面扩散，所以只对扩散面的绒面形态有要求，即只需要对扩散面制绒，而且双边腐蚀降低了硅片的厚度，从良率和效率来看，都有所损失。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：对现有制绒设备进行改进，进行单面腐蚀制绒。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种单面腐蚀酸制绒设备，包括制绒槽，在制绒槽的上料端具有用于控制药液高度的上料端挡板，在制绒槽内具有输送硅片的下滚轮，降低制绒槽的上料端挡板的高度，该高度为使药液的液面刚好没过硅片下滚轮的高度。

本实用新型的有益效果是：使用本设备进行单面制绒，一个面达到了制绒的效果，另一个面仍是硅片本身的性能，这有利于丝网背电场的印刷及电流的收集，从而提高效率；同时单面制绒也降低了机碎率。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明；

图1是本实用新型的结构示意图；

其中：1.制绒槽，2.上料端挡板，3.下滚轮，4.硅片，5.液面。

具体实施方式

现在结合附图1对本实用新型作进一步详细的说明。该附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

一种单面腐蚀酸制绒设备，包括制绒槽1，在制绒槽1的上料端具有用于控制药液高度的上料端挡板2，在制绒槽1内具有输送硅片4的下滚轮3，降低制绒槽1的上料端挡板2的高度，减小循环流量，使液面5刚好没过滚轮，硅片4漂浮在液面5上。

以RENA Intex的制绒设备为例，RENA Intex的制绒方法是将硅片4完全浸没在药液里，上表面也被腐蚀并制绒。在下滚轮3上还具有上滚轮，上滚轮的目的是下压硅片4，使硅片4不漂浮，保持前进方向。采用本设计来改造该制绒设备，去除上滚轮，降低制绒槽上料端挡板2的高度，减小循环流量，使液面5刚好没过下滚轮3，硅片4漂浮在液面5上；或者直接将Intex制绒槽更换成Inoxside刻蚀槽，形成对制绒槽的单面腐蚀。