[实用新型]一种离子注入和等离子体沉积薄膜的设备

权利要求书

1.一种离子注入和等离子体沉积薄膜的设备，该设备包括离子源和真空室，其特征在于：所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及至少1个用于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、冷却部件、收卷辊；所述冷却部件置于所述放卷辊和所述收卷辊之间；所述冷却部件由所述至少1根可以自由转动的、中空且内通冷却介质的冷却辊组成，所述冷却辊、所述放卷辊和所述收卷辊都相互平行，并且所述冷却辊的轴向与所述等离子体进入所述真空室的方向垂直；所述等离子体进入所述真空室的方向与所述冷却辊的轴向均为水平方向，所述冷却辊与所述开口在水平高度上一一对应；或者所述等离子体进入所述真空室的方向为水平方向，所述冷却辊的轴向为竖直方向，所述开口与所述冷却辊在左右方向或者前后方向上一一对应；或者所述等离子体进入所述真空室的方向为竖直方向，所述冷却辊相对应地位于所述开口的正下方或者正上方。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述真空室内还设置有张力调节机构，所述张力调节机构置于所述冷却部件的两侧并位于所述放卷辊与所述收卷辊之间。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于：所述张力调节机构包括一个或者多个过渡轮，一个或多个张力调节轮以及一个或多个牵引轮。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还包括与所述放卷辊和所述收卷辊相连的电机和用于加速由所述离子源发出的离子束流的部件；所述部件设置在所述离子源与所述真空室之间。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于：所述真空室内还设置有支架，所述电机、所述放卷辊、所述张力调节机构、所述收卷辊以及所述冷却部件均置于所述支架上。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述离子源为金属蒸汽真空弧离子源或者磁过滤金属蒸汽真空弧离子源。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述真空室壁上还设置有工作气体通入口。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述开口的个数为2-10个，所述冷却辊的根数为2-10根。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的设备，其特征在于：所述开口为6个，在所述真空室的相对两壁上分别设置3个。

10.根据权利要求1-8中任意一项所述的设备，其特征在于：所述开口为矩形，该矩形的两条边与所述冷却辊轴向平行，另两条边与所述冷却辊轴向垂直，其中，与所述冷却辊轴向垂直的两条边的尺寸为所述冷却辊直径的0.3-1倍。

11.根据权利要求9所述的设备，其特征在于：所述开口为矩形，该矩形的两条边与所述冷却辊轴向平行，另两条边与所述冷却辊轴向垂直，其中，与所述冷却辊轴向垂直的两条边的尺寸为所述冷却辊直径的0.3-1倍。

12.根据权利要求10所述的设备，其特征在于：所述开口与其相对应的所述冷却辊轴线之间的距离为所述冷却辊直径的0.5-3倍。

13.根据权利要求11所述的设备，其特征在于：所述开口与其相对应的所述冷却辊轴线之间的距离为所述冷却辊直径的0.5-3倍。

14.根据权利要求10所述的设备，其特征在于：位于同一壁上的相邻两个所述开口之间的距离为所述冷却辊直径的0.75-4倍。

15.根据权利要求11所述的设备，其特征在于：位于同一壁上的相邻两个所述开口之间的距离为所述冷却辊直径的0.75-4倍。

16.根据权利要求12所述的设备，其特征在于：位于同一壁上的相邻两个所述开口之间的距离为所述冷却辊直径的0.75-4倍。

17.根据权利要求13所述的设备，其特征在于：位于同一壁上的相邻两个所述开口之间的距离为所述冷却辊直径的0.75-4倍。

18.根据权利要求17所述的设备，其特征在于：所述开口与所述冷却辊轴向垂直的两条边的尺寸30-100毫米，所述冷却辊轴的直径为50-100毫米，所述开口与其相对应的所述冷却辊轴线间的距离为50-150毫米；位于同一壁上的相邻两个所述开口之间的距离75-200毫米。