[实用新型]水浴沉积镀膜槽有效
申请号: | 201020554680.9 | 申请日: | 2010-10-11 |
公开(公告)号: | CN201801593U | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 施成营;李沅民;林光沂 | 申请(专利权)人: | 福建钧石能源有限公司 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362000 福建省泉州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水浴 沉积 镀膜 | ||
1.一种水浴沉积镀膜槽,应用于太阳能电池薄膜的制备工艺中;其特征在于包括,由长方形底壁及沿所述底壁边缘围置的侧壁形成的凹槽,以及设置于所述凹槽中的搅拌装置,所述搅拌装置对所述凹槽中的盛放物进行搅拌。
2.根据权利要求1所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述凹槽为包括内槽和外槽的双层结构,所述外槽套接于所述内槽之外,且所述内槽的外壁和外槽的内壁壁之间设置有距离,形成容置空间。
3.根据权利要求2所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述搅拌装置为由其中一侧壁中央向相对侧壁延伸的搅拌手,所述搅拌手的长度小于该两相对侧壁之间的距离,所述搅拌手以所述侧壁中央为中心并沿所述内槽底面摆动的方式对内槽中的盛放物搅拌。
4.根据权利要求3所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述搅拌手摆动角为180度。
5.根据权利要求3所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述搅拌手为板状结构,且其板面垂直于所述内槽的底面。
6.根据权利要求5所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述板状结构的搅拌手上沿其厚度方向还设置有通孔。
7.根据权利要求5所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述搅拌手的自由端为斜楔形结构。
8.根据权利要求3所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述搅拌手的非摆动端设置有搅拌臂,所述搅拌臂的一端与搅拌手固定连接,另一端沿所述凹槽的侧壁向上并向外伸出所述凹槽。
9.根据权利要求8所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述搅拌臂伸出凹槽侧壁之外的端部与一转动轴固定连接,所述转动轴的轴线与所述凹槽底面垂直;所述转动轴与一动力装置连接。
10.根据权利要求9所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述动力装置为步进电机。
11.根据权利要求10所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述步进电机动力输出轴平行于所述凹槽底面设置,通过一对换向齿轮副与所述转动轴连接。
12.根据权利要求10所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述步进电机垂直放置,其动力输出端直接与所述转动轴连接。
13.根据权利要求2所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述内槽的深度为10厘米,长度为130厘米,宽度为65厘米。
14.根据权利要求1所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,在所述水浴沉积镀膜槽底壁下面还设置有加热装置。
15.根据权利要求14所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述加热装置为电炉丝。
16.根据权利要求1所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,在所述凹槽的开口侧的侧壁上设置有垫片,用于对设置于其上的太阳能电池面板基板提供支撑和密封,防止沉积溶液溢出。
17.根据权利要求2所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,所述容置空间中设置溶液作为加热媒介。
18.根据权利要求1所述的水浴沉积镀膜槽,其特征在于,还包括控制反馈系统,以设定控制水浴加热的温度、时间,设定控制搅拌手搅拌的频率、幅度及时间。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理