[实用新型]一种磁环护盒无效
申请号: | 201020561340.9 | 申请日: | 2010-10-14 |
公开(公告)号: | CN201829348U | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 姜志明;严仕传 | 申请(专利权)人: | 胜美达电机(香港)有限公司 |
主分类号: | H01F41/08 | 分类号: | H01F41/08 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 赵磊;曾旻辉 |
地址: | 中国香港鲗鱼涌英*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁环护盒 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种磁环护盒。
背景技术
为保护绕线后的磁环,通常会在磁环外设置护盒,该护盒主体由上盖体和下盒体两部分组成,其中下盒体中空,中心设有中空的圆筒,磁环套设在圆筒外,上盖体为中空圆环片状结构,直接盖在磁环上。磁环被设置在护盒内,卷线时线组从圆筒中穿过,卷绕在护盒外。由于护盒中心部位空心,整体强度不足,卷线拉力增加时很容易造成护盒变形,进而影响到磁环的特性。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种改善整体强度、不易变形的磁环护盒。
本实用新型的技术解决方案是:一种磁环护盒,包括上盒体和下盒体,所述上盒体为中心设有圆柱形导线柱的盒状体,在导线柱内设有贯通的穿线孔,所述下盒体为设有与穿线孔分别对应的出线孔的片状体。
上盒体的中心是实心的导线柱,下盒体上设有出线孔,上下盒体扣合后,磁环可以放置在导线柱和上盒体侧壁之间的空隙内,盒体内的绕线可以从穿线孔和出线孔内经过,护盒中心部位是实心结构,整体强度高,卷线时不会发生变形,磁环的性能不会受到影响,而且绕线相互之间被隔开,产品的绝缘性能也得到提高。
在所述上盒体的外壁上设有引线沟,卷绕在上盒体外的导线可以放置在引线沟内,起到保护和隔离的作用。
所述上盒体内壁上设有阶梯部,所述下盒体的内壁上设有与阶梯部相配合的环凸台。方便上下盒体之间的扣合,同时防止下盒体相对上盒体的位移。
所述导线柱上设有定位槽,在所述下盒体的内壁上设有与定位槽配合的定位突块。定位突块嵌入定位槽内,即方便穿线孔和出线孔对齐,又能防止上下盖体之间的转动。
沿所述下盒体的周边设有与所述引线沟对应的缺口,方便导线沟内的导线卷绕在下盒体上。
所述下盒体的外壁上设有连接所述出线孔和所述缺口的导线槽。起到导向作用,同时可以提高经过下盒体外壁的导线之间的绝缘性能。
本实用新型的优点是:整体结构强度高,有效消除卷线应力对磁环性能的影响,此外导线得到有效隔离,线材之间的绝缘性能更高,耐压性好。
附图说明
附图1为本实用新型实施例的爆炸图;
附图2为本实用新型实施例组合后的结构图;
附图3为本实用新型实施例中上盒体的结构示意图;
附图4为本实用新型实施例中下盒体的结构示意图;
附图5为本实用新型实施例中下盒体的仰视图;
附图6为本实用新型实施例卷线后的立体图;
附图7为本实用新型实施例卷线后的另一角度视图;
1、上护盒,2、磁环,3、下护盒,4、引线沟,5、穿线孔,6、导线柱,7、阶梯部,8、定位槽,9、环凸台,10、定位突块,11、缺口,12、出线孔,13、导线槽,14、接线端子。
具体实施方式
实施例:
参阅图1-5,为一种磁环护盒的结构示意图,它包括上盒体1和下盒体3,磁环2设置在上盒体1和下盒体3之间的空隙内。上盒体1为中心设有圆柱形导线柱6的盒状体,其外壁上设有轴向的引线沟4,在导线柱6内设有贯通的穿线孔5,磁环2设置在导线柱6和上盒体1之间的空腔内。下盒体3为设有与穿线孔5分别对应的出线孔12的片状体,从下部扣合在上盖体1的底部,将其封闭。
上盒体1的内壁上设有阶梯部7,下盒体3的内壁上设有与阶梯部7相配合的环凸台9,当下盒体3扣合在上盒体1的底部时,环凸台9位于阶梯部7内,上盒体1被限位,不能在下盒体3表面移动。
导线柱6上设有定位槽8,在下盒体3的内壁上设有与定位槽8配合的定位突块10。当定位突块10嵌入定位槽8内时,导线柱6上的穿线孔5与下盖体3上的出线孔12对齐,此时上盖体1相对下盖体3不能转动。
沿下盒体3的周边设有与引线沟4对应的缺口11,下盒体3的外壁上设有连接出线孔12和缺口11的导线槽13。
参阅图6-7,卷线时,导线分别从出线孔12、穿线孔5内进入,护盒周边的导线分别嵌入引线沟4内,下盒体3外侧面上卷绕的导线也分别嵌入导线槽13内,在上盒体1周边和下盒体2底部分别形成两个线组的四个接线端子14。各导线之间分别隔离,整个线组的绝缘性能不会因为卷线时导线表面皮膜破损而降低,线组间耐压性能良好,接线端子之间的距离也能保证。
上列详细说明是针对本实用新型之一可行实施例的具体说明,该实施例并非用以限制本实用新型的专利范围,凡未脱离本实用新型所为的等效实施或变更,均应包含于本案的专利范围中。
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