[实用新型]一种光电液位测量装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种液位测量装置，尤其涉及一种光电液位测量装置。

背景技术

在半导体制造工艺中，研磨步骤是对晶圆表面的机械加工。研磨晶圆的目的是去除晶圆表面的切痕或凹凸不平，使表面加工损伤平整均匀，在化学腐蚀过程中，其表面腐蚀速率即可均匀一致。目前研磨液(例如OXSIDE 1501)是非常容易结晶的化学品，在空气中极易结晶，在接触的物体表面上附着且难以清洗，随着时间的推移，表面结晶将越来越严重。在实际生产中，将使用过的研磨液收集在集液箱或集液桶，就遇到结晶问题，现有技术中集液箱或集液桶内设置有液位测量用多浮子液位测量装置，所述多浮子液位测量装置是一种简单而实用的液位测量仪表，主要用于工业生产过程中敞开或承压容器内液位的控制，当液位处于高限或低限时，会发生开关动作，例如发出报警信号或控制泵、控制阀的开启或关闭。多浮子液位测量装置安全性好，寿命长。通常情况下，从集液箱或集液桶顶部放入多浮子液位开关，浮子随液位上升或下降而上、下移动，当浮子到达某个液位控制点时，浮子开关的控制装置会发出报警信号。然而，经过一段时间的使用，就会发生浮子被结晶物卡出无法上升、下降，造成测量失效的问题发生。

现有技术中，定期对多浮子液位测量装置的附着晶体进行清理。一般有两种方法：1、采用金属刷子清理附着在多浮子液位测量装置的结晶物。由于使用金属刷子的清理，造成对多浮子限位开关表面的刮伤，造成表面更加容易结晶，从而结晶越来越严重。2、用大量的氢氧化钾(KOH)溶液浸泡多浮子液位测量装置，以溶解结晶在多浮子液位测量装置表面的结晶物，然而由于设备需要一直运行，故不能长时间浸泡，效果不佳。

不仅在半导体研磨工艺中，在其他工艺，甚至其他领域中也出现因收集液结晶阻塞多浮子液位测量装置的浮子，从而影响液位测量的问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是，提供一种不会因收集液结晶阻塞测量的、且结构简单易于制作的光电液位测量开关。

为解决上述问题，本实用新型提供一种光电液位测量装置，包括：

浮子，包括导向杆和固定于所述导向杆末端的浮球；

定位管，所述定位管套设在所述导向杆上，所述定位管上设置有至少一组透光孔；

光电检测装置，包括设置于所述透光孔处的发光设备和感光设备、以及与所述感光设备电性相连的控制设备。

较佳的，所述导向杆的水平横截面为椭圆形。

可选的，所述定位管的水平横截面为矩形或椭圆形。

进一步的，所述发光设备和所述感光设备的外部均包裹有遮光盒。

进一步的，所述一组透光孔包括正对的两个透光孔，其中一个透光口上设置所述发光设备，其中另一个透光孔上设置所述感光设备。

进一步的，所述发光设备为光电二极管，所述感光设备为感光二极管，所述控制设备为可编程逻辑控制器。

进一步的，所述导向杆与所述导向杆与所述浮球为一体成型。

优选的，所述浮球与所述导向杆的材料为聚四氟乙烯。

优选的，所述定位管的材料为聚四氟乙烯。综上所述，本实用新型中所述光电液位测量装置采用光电测量设备，不会因收集液结晶阻塞而影响测量。

所述光电测量设备将测量用发光设备、集光设备和控制设备与收集液完全不接触，使测量工作更加稳定持久具有低维护频率的优点，同时所述光电测量设备结构简单、易于制作、运行成本低耗能小。

附图说明

图1为本实用新型一实施例中光电液位测量装置的使用状态图一。

图2为沿图1中AB方向的横截面示意图。

图3为本实用新型一实施例中光电液位测量装置的使用状态图二。

具体实施方式

为使本实用新型的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本实用新型的内容作进一步说明。当然本实用新型并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本实用新型的保护范围内。

其次，本实用新型利用示意图进行了详细的表述，在详述本实用新型实例时，为了便于说明，示意图不依照一般比例局部放大，不应以此作为对本实用新型的限定。

图1为本实用新型一实施例中光电液位测量装置的使用状态图一。请参考图1，所述光电液位测量装置包括：浮子200，包括导向杆200b和固定于所述导向杆200b末端的浮球200a；定位管，所述定位管300套设在所述导向杆200b上，所述定位管300上设置有至少一组透光孔401；光电检测装置，包括设置于所述透光孔401处的发光设备404和感光设备405、以及与所述感光设备405电性相连的控制设备403。