[实用新型]一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统

说明书

技术领域

本实用新型属于蚀刻技术领域，尤其涉及一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统。

背景技术

全球PCB产业产值占电子元件产业总产值的四分之一以上，是各个电子元件细分产业中比重最大的产业，产业规模达400亿美元。同时，由于其在电子基础产业中的独特地位，已经成为当代电子元件业中最活跃的产业。

蚀刻作为PCB制程中的重要工艺，酸性蚀刻液因为具有侧蚀小、速率易于控制和易再生等特点，被广泛应用。在蚀刻过程中，Cu²⁺与Cu作用生成Cu⁺，随着蚀刻反应的进行，Cu⁺数量越来越多，Cu²⁺减少，蚀刻液蚀刻能力很快下降，为保持稳定蚀刻能力，需加入氧化剂使Cu⁺尽快转化为Cu²⁺。

目前，酸性蚀刻液一般为添加H₂O₂或NaClO₃药剂进行再生，但相对成本较高，且不符合清洁生产要求。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，解决现有技术酸性蚀刻液再生需要额外添加氧化剂的技术问题。

本实用新型是这样实现的，

一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，该再生系统包括蚀刻缸、蚀刻废液中转槽、离子膜电解槽、再生蚀刻液槽，该离子膜电解槽通过离子交换膜分为阳极室和阴极室，该蚀刻废液中转槽将蚀刻缸和阳极室相连通，该蚀刻废液中转槽储存来自于蚀刻缸中并用于供给至阳极室的蚀刻废液，该再生蚀刻液槽将阳极室和蚀刻缸相连通，该再生蚀刻液槽储存阳极室中再生蚀刻液并用于提供至蚀刻缸。

进一步，本实用新型再生系统还包括将阳极室和蚀刻缸相连通，并用于将阳极室中的氯气导入至蚀刻缸中的射流装置。

进一步，本实用新型再生系统还包括废气处理装置，该废气处理装置分别和阴极室、再生蚀刻液槽、蚀刻液中转槽相连通。

进一步，本实用新型再生系统还包括与阴极室相连通并提供给阴极室氯离子的氯化物储存槽。

进一步，本实用新型再生系统中的废气处理装置还包括碱液喷淋装置。

本实用新型再生系统，利用氯离子电解原理产生强氧化剂氯气，氧化蚀刻废液中的亚铜离子，解决了现有技术中额外地添加氧化剂来氧化亚铜离子的技术问题，降低了生成成本，而且不添加杂质到再生的蚀刻液中，保证了再生的蚀刻液和新鲜的蚀刻液的一致性。

附图说明

图1是本实用新型实施例一再生系统示意图；

图2是本实用新型实施例离子膜电解槽结构示意图；

图3是本实用新型实施例阴极室和氯化物储存槽结构示意图；

图4是本实用新型实施例二再生系统示意图；

图5是本实用新型实施例三再生系统示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图1，本实用新型实施例一的再生系统，包括蚀刻缸1、蚀刻废液中转槽2、离子膜电解槽3、再生蚀刻液槽4，该离子膜电解槽3分为阳极室31和阴极室32，该蚀刻废液中转槽2将蚀刻缸1和阳极室相连通31，该蚀刻废液中转槽2储存蚀刻缸1中的蚀刻废液并提供至阳极室31，该再生蚀刻液槽4将阳极室31和蚀刻缸1相连通，该再生蚀刻液槽4储存阳极室31中的再生蚀刻液并提供至蚀刻缸1。

本实用新型实施例提供的含铜离子蚀刻液再生系统，蚀刻废液中转槽2和蚀刻缸1、阳极室31相连通，储存蚀刻缸1中的蚀刻废液，并且将该蚀刻废液提供至阳极室31中，在阳极室31发生氧化反应，将蚀刻废液再生。阳极室31得到的再生蚀刻液储存至再生蚀刻液槽4中并且通过再生蚀刻液槽4提供至蚀刻缸1中。

本实用新型实施例中蚀刻液含有铜离子，并且铜离子对蚀刻起主要作用；蚀刻废液中含有少量的铜离子和大量的亚铜离子，这使得蚀刻液的蚀刻能力大大降低。

请参阅图2，显示本实用新型实施例离子膜电解槽的结构。离子膜电解槽3中有一离子交换膜5，将离子膜电解槽3分为阳极室31和阴极室32，在阳极室31内设置有阳极板33，该阳极板33是钛涂层板；在阴极室32内设置有阴极板34，该阴极板34是不锈钢板；阳极板33、阴极板34分别和相应的电流装置连接。