[实用新型]曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线无效

专利信息
申请号: 201020585892.3 申请日: 2010-10-28
公开(公告)号: CN201877576U 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: 谢泽明;褚庆昕;熊尚书 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01Q13/02 分类号: H01Q13/02;H01Q19/17;H01Q15/16;H01Q21/00
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 梁莹;李卫东
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 曲线 阵列 馈源 双焦抛物 反射 空间 功率 合成 天线
【权利要求书】:

1.一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线,其特征是,由反射面和馈源阵列组成;所述反射面是将位于x-y平面的第一抛物曲线的顶点放在位于y-z平面的第二抛物曲线上,在保持第一抛物曲线所在的平面与第二抛物曲线垂直的状态下,由第一抛物曲线沿第二抛物曲线扫描形成的双焦抛物曲面,其中,第一抛物曲线的焦距F1<第二抛物曲线的焦距F2;所述馈源阵列是指按第三抛物曲线排列的喇叭天线,所述第三抛物曲线是第二抛物曲线在y-z平面上沿第二抛物曲线的轴线平移到第一抛物曲线的焦点所形成的抛物曲线;所述喇叭天线排列时其相位中心在第三抛物曲线上,所有喇叭天线的指向平行,且方向在第一抛物曲线的张角的中间;所述每个喇叭天线的馈电相位φ按照如下公式配置:

φ=-j2πλl]]>

式中:φ为喇叭天线的馈电相位,λ为电磁波波长,l为喇叭天线的相位中心到第二抛物曲线的焦点的距离。

2.根据权利要求1所述的曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线,其特征是,所述反射面是指采用对电磁波有良好反射的铜、铝或铁制成的反射面。

3.根据权利要求1所述的曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线,其特征是,所述第二抛物曲线焦距F1的选取应保证所述馈源阵列对第二抛物曲线的焦点的张角等于第二抛物曲线对该焦点的张角;第一抛物曲线的焦距F2的选取应保证第一抛物曲线对它的焦点的张角等于所述喇叭天线在x-y平面上辐射方向性图主波瓣的10db宽度。

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