[实用新型]一种自密封零泄漏疏水型面机械密封端面结构无效
申请号: | 201020589291.X | 申请日: | 2010-11-03 |
公开(公告)号: | CN201884666U | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 彭旭东;刘鑫;李纪云;孟祥铠;盛颂恩 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | F16J15/40 | 分类号: | F16J15/40 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;黄美娟 |
地址: | 310014 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 密封 泄漏 疏水 机械 端面 结构 | ||
技术领域
本实用新型属于机械端面密封技术领域,特别涉及适用于各种压缩机、泵和釜等旋转机械转轴的轴端密封装置,特别适合于中低压或中低速场合下液体介质的一种自密封零泄漏疏水型面机械密封端面结构。
背景技术
流体机械的转轴密封经常采用机械密封,填料密封,油封,迷宫式密封等。当螺旋槽等型槽端面非接触式机械密封正常运行时,端面型槽产生流体动压而使端面开启力增大,流体膜厚增加导致泄漏率也升高;与此同时,介质中的硬质磨料和端面在启停期间产生的磨屑也容易在槽根部积聚且对端面产生磨损,导致密封失效。当接触式机械密封启动时,端面间缺少流体润滑而导致摩擦热上升并伴随产生磨损、变形甚至热裂,因此密封寿命较短。与接触式机械密封相比,非接触式机械密封是以少量的泄漏为代价来减小密封端面的磨损。美国专利5,201,531公开了一种流体动压型双列螺旋槽端面密封装置,据称在理论上达到密封流体的零泄漏。中国专利200620100860.3和200710067282.7公开了新型变分布多孔端面机械密封结构,据称有优异的耐压性、耐磨性、稳定性。
发明内容
为了减小或防止非接触式机械密封的泄漏,克服磨料磨损端面或磨穿密封坝导致的高泄漏率问题,本实用新型提供一种自密封性好,液膜刚度大,稳定性好,能防止密封启动和运行时端面产生磨损的自密封零泄漏疏水型面机械密封端面结构。
本实用新型的技术方案:
一种自密封零泄漏疏水型面机械密封端面结构,包括机械密封的动环、静环,所述动环和静环的端面的一侧为高压侧即上游,所述动环和静环的端面的另一侧为低压侧即下游,其特征在于:所述动环或静环中至少一个密封端面是由按照压力从高到低方向依次排布的微槽动压环带、密封坝和疏水型面三者组成的复合型面。
进一步,所述疏水型面是由微纳米尺度的柱体构成的规则织构平面或规则织构锥面。
或者,所述疏水型面是由微纳米尺度的凹坑构成的规则织构平面或规则织构锥面。
进一步,所述密封坝是没有加工有微槽或微柱或凹坑的光滑平面。
进一步,所述微槽动压环带是由放射性均布在密封端面上的微槽型面组成。
进一步,所述密封端面上设有多个疏水型面。
进一步,所述密封端面上设有多个微槽动压环带。
进一步,所述微槽动压环带宽度为whp,所述疏水型面宽度为whd,且0≤whp<B,0≤whd≤B/2,其中B为密封面宽度。
所述微槽动压环带的各种微槽的深度为2~30μm,微纳米尺度的柱体或微纳米尺度的凹坑的直径为0.05~5μm,微纳米尺度的柱体或微纳米尺度的凹坑间距为0.1~5μm,微纳米尺度的柱体高度或微纳米尺度的凹坑深度为0.05~1μm;当所述疏水型面是规则织构锥面时,其锥度为1:150~1:10。所述密封坝为不加工任何微槽或微柱或微凹的光滑平面,当密封介质压力小于1.5 MPa时的密封坝宽度为0.5~1.5 mm,当密封介质压力大于1.5 MPa时的密封坝宽度为1.5~5.0 mm;微槽可以是螺旋槽、雁型槽、圆弧槽、直线槽、T型槽、纵树槽、儿字槽等型槽,且单向旋转场合优先选择螺旋槽。本实用新型适用于密封一切液体介质,特别适合于中低压或中低速场合下液体介质的密封。
本实用新型的优点是:
1.采用窄面疏水型面,其自密封性可以明显降低泄漏甚至达到零泄漏。
2.采用一个或多个疏水型面,可以减少或避免端面的磨损,大大提高机械密封整体的密封性能和耐磨损性能。
3.采用微槽动压环带与疏水型面相结合的方式,可以在端面内存储润滑介质,防止机器启动时端面产生干磨,提高机械密封的开启特性和可靠性。
附图说明
图1为本实用新型的疏水型面是微纳尺度的柱体的结构示意图。
图2为沿图1中A-A向的剖视图。
图3为图2中a部分的放大图。
图4为本实用新型的疏水型面是微纳尺度的凹坑的结构示意图。
图5为沿图4中B-B向的剖视图。
图6为图5中b部分的放大图。
图7为本实用新型设有两个疏水微柱或微凹复合型面结构示意图。
图8为本实用新型设有双螺旋槽疏水微柱复合型面结构示意图。
具体实施方式
实施例一
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学,未经浙江工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020589291.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。