[实用新型]靶材坯料打磨装置

说明书

技术领域：

本实用新型半导体制造行业中的机械加工领域，尤其涉及一种靶材坯料打磨装置。

背景技术：

在靶材坯料生产过程中，通常需要对其进行等静压处理。等静压处理是把被加工物体放置于盛满液体的密闭容器中，通过增压系统进行逐步加压对被加工物体的各个表面施加相等的压力，使其在不改变外观形状的情况下缩小分子间的距离增大密度而改善物质的物理性质。

通常等静压处理之前，靶材坯料只经过了粗略的加工，在靶材坯料表面会有一些细小的裂痕，这些裂痕在等静压处理过程中，因受到强大的压力会导致裂痕扩大，致使靶材坯料形成废料，造成损失。为避免这种损失，在等静压处理前，需要将靶材坯料表面的细小裂痕打磨去除，这样等静压处理中，就可以减少靶材的损失。目前，现有的打磨方案是由操作人员手持小型的电动打磨机，将靶材坯料放在墙角的平台上进行手动打磨。

然而，现有的靶材坯料打磨方案中，电动打磨机溅射出的细小颗粒在撞到墙角后会无规律的反射，这样会伤到操作人员和周围工作的人员；此外溅射出的细小颗粒会散落在周围的地面，从而造成人员在走动中摔伤，同时会造成对环境的污染。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种靶材坯料打磨装置，以避免伤到操作人员和周围工作的人员，并解决溅射出的细小颗粒会散落在周围的地面的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种靶材坯料打磨装置，包括：

进料口为四边形的漏斗，漏斗进料口相对的两边之间连接有支撑平台，漏斗进料口的三个边上方分别设置有立板。

优选的，

所述漏斗的进料口为正方形。

优选的，

所述正方形的边长为1米。

优选的，

所述支撑平台由漏斗进料口相对的两边之间连接的多个条形连接件组成；

每两个相邻的条形连接件之间存在间隙。

优选的，

所述间隙的宽度为1厘米。

优选的，

所述立板的长度为1米，宽度为50厘米。

优选的，

所述漏斗进料口的四个顶点下设置有支撑件。

优选的，所述靶材坯料打磨装置，还包括：

容器，所述容器连接到漏斗的出料口。

应用本实用新型实施例所提供的技术方案，所提供的靶材坯料打磨装置，通过在漏斗进料口的三个边上设置的立板，能够有效的阻挡溅射出的颗粒，防止伤到操作人员；通过设置的漏斗装置，能够及时的收集溅射出的颗粒，能够解决溅射出的细小颗粒散落在周围的地面的问题，减小颗粒物对工作环境的污染。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例一提供的靶材坯料打磨装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例二提供的支撑平台的结构示意图；

图3为本实用新型实施例二提供的支撑平台的结构示意图；

图4为本实用新型实施例三提供的靶材坯料打磨装置的一种侧面结构示意图。

具体实施方式

现有的靶材坯料打磨方案是由操作人员手持小型的电动打磨机，将靶材坯料放在墙角的平台上进行手动打磨。在操作过程中，电动打磨机溅射出的细小颗粒在撞到墙角后会无规律的反射，这样会伤到操作人员和周围工作的人员；此外溅射出的细小颗粒会散落在周围的地面，从而造成人员在走动中摔伤，同时会造成对环境的污染。

为此本实用新型实施例提供了一种靶材坯料打磨装置，包括：进料口为四边形的漏斗，漏斗进料口相对的两边之间连接有支撑平台，漏斗进料口的三个边上方分别设置有立板。

本实用新型实施例提供的靶材坯料打磨装置，通过在漏斗进料口的三个边上设置的立板，能够有效的阻挡溅射出的颗粒，防止伤到操作人员；通过设置的漏斗装置，能够及时的收集溅射出的颗粒，能够解决溅射出的细小颗粒散落在周围的地面的问题，减小颗粒物对工作环境的污染。

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例一：