[实用新型]一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统有效
申请号: | 201020593227.9 | 申请日: | 2010-11-05 |
公开(公告)号: | CN201834965U | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 李一成 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 薄膜 太阳能电池 化学 沉积 系统 | ||
1.一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统,跨越设置在洁净度不同的第一区域和第二区域,其中,第一区域的洁净度高于第二区域;该化学气相沉积系统包含依次连接的加载台、第一承载室、多个化学气相沉积反应室、第二承载室和卸载台;其特征在于:
所述的化学气相沉积系统整体呈弓形设置;其中,
所述的加载台和卸载台设置在第一区域中;
所述的第一承载室、多个化学气相沉积反应室和第二承载室设置于第二区域中。
2.如权利要求1所述的化学气相沉积系统,其特征在于,该化学气相沉积系统包含三个部分:
所述的加载台与第一承载室依次连接构成第一部分,即为该弓形化学气相沉积系统的其中一个弓翼部分;
所述的卸载台与第二承载室依次连接构成第三部分,即为该弓形化学气相沉积系统的另一个弓翼部分;
所述的至少一个化学气相沉积反应室作为中间连接反应室构成第二部分,即为该弓形化学气相沉积系统的弓身部分。
3.如权利要求2所述的化学气相沉积系统,其特征在于,所述的化学气相沉积系统的第一部分还包含依次连接的多个首部化学气相沉积反应室,其设置在第一承载室与中间连接反应室之间,位于第二区域。
4.如权利要求2所述的化学气相沉积系统,其特征在于,所述的化学气相沉积系统的第三部分还包含依次连接的多个尾部化学气相沉积反应室,其设置在第二承载室与中间连接反应室之间,位于第二区域。
5.如权利要求1-4中任一所述的化学气相沉积系统,其特征在于,在所述的加载台与第一承载室之间、第一承载室与首个化学气相沉积反应室之间、卸载台与第二承载室之间、以及第二承载室与最后一个化学气相沉积反应室之间均设置有隔离阀门。
6.如权利要求5所述的化学气相沉积系统,其特征在于,所述的化学气相沉积反应室是低压化学气相沉积反应室。
7.如权利要求6所述的化学气相沉积系统,其特征在于,所述的第二区域内设置维修区域,该维修区域被所述的弓形化学气相沉积系统围设形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于理想能源设备(上海)有限公司,未经理想能源设备(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020593227.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:线路板电镀槽之改良结构
- 下一篇:电极复合体、电极复合体的制造方法及锂电池
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的