[实用新型]浸没光刻机的浸液温度控制和测量装置有效

专利信息
申请号: 201020596742.2 申请日: 2010-11-08
公开(公告)号: CN201926867U 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 孙文凤 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G05D23/24;G01K7/22
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 浸没 光刻 浸液 温度 控制 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种浸没光刻机的浸液温度控制和测量装置,其特征在于:包括浸液存储单元、用于对浸液进行温度调节的水温控制设备、回水分流板、进水分流板、参数测量板、上位机,所述的水温控制设备设有液体出口和液体入口,所述的水温控制设备的液体出口、进水分流板、浸液存储单元、回水分流板、所述的水温控制设备的液体入口依次相连通构成浸液循环回路,所述的上位机与所述的水温控制设备相电连接,所述的上位机控制所述的水温控制设备工作,所述的浸液存储单元内安装有温度传感器,该温度传感器与所述的参数测量板相信号连接,所述的温度传感器将其测得的浸液温度及时传输给所述的参数测量板,所述的参数测量板与所述的上位机相电连接,所述的参数测量板将从所述的温度传感器处获得的浸液温度信息传输给所述的上位机。

2.根据权利要求1所述的浸没光刻机的浸液温度控制和测量装置,其特征在于:所述的进水分流板与回水分流板内也分别安装有温度测量元件,所述的温度测量元件与所述的参数测量板相信号连接。

3.根据权利要求2所述的浸没光刻机的浸液温度控制和测量装置,其特征在于:所述的温度测量元件为热敏电阻探头。

4.根据权利要求1所述的浸没光刻机的浸液温度控制和测量装置,其特征在于:所述的水温控制设备采用热电制冷方式。

5.根据权利要求4所述的浸没光刻机的浸液温度控制和测量装置,其特征在于:所述的水温控制设备采用PID控制算法的温控方式。

6.根据权利要求1所述的浸没光刻机的浸液温度控制和测量装置,其特征在于:所述的浸液存储单元具有进水口和回水口,所述的温度传感器安装在所述的浸液存储单元的回水口处。

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