[实用新型]一种靶材晶粒的连续生产装置无效
申请号: | 201020613671.2 | 申请日: | 2010-11-19 |
公开(公告)号: | CN201889427U | 公开(公告)日: | 2011-07-06 |
发明(设计)人: | 武浚;马瑞新;艾琳 | 申请(专利权)人: | 金川集团有限公司 |
主分类号: | B22D27/04 | 分类号: | B22D27/04;B22F9/10 |
代理公司: | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人: | 李子健;李迎春 |
地址: | 737103*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶粒 连续生产 装置 | ||
1.一种靶材晶粒的连续生产装置,其包括腔体和顶盖,所述腔体的腔体壁为双层结构,所述顶盖固定在所述双层腔体顶,所述腔体的外层开有进水口和出水口,其特征在于,所述装置还包括:
进料过渡仓,其位于所述顶盖上,所述进料过渡仓包括进料口和可活动闸门,所述进料过渡仓与所述腔体之间通过可活动进料仓隔板隔离;
出料过渡仓,其位于所述腔体的侧下部,所述出料过渡仓包括出料口和可活动闸门,所述出料过渡仓通过可活动出料隔板隔离;
抽真空管,其通过所述顶盖插入所述腔体内;
感应熔炼炉,其固定在所述腔体内,位于所述腔体的上部,并且炉体下部开有一个小孔;
旋转轴,其从所述腔体底部穿过进入所述腔体内部;
水冷盘,所述水冷盘为一圆盘,所述水冷盘位于所述感应熔炼炉下方,并且所述水冷盘固定在所述旋转轴上;
刮板,所述刮板位于所述水冷盘下方并且也固定在所述旋转轴上,所述刮板的两侧贴在所述腔体内壁。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述顶盖上还接有充氩气管。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述顶盖和腔体通过螺丝和螺母紧固,并且连接处垫有真空垫。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述进水口位于所述腔体的下部,所述出水口位于所述腔体的上部。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,在所述熔炼炉和所述水冷盘之间还设有中间包。
6.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述感应熔炼炉由石墨坩埚和绕在所述石墨坩埚外的感应线圈构成。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述水冷盘的内部包括一金属圆盘,所述旋转轴内通有一根冷却水管,所述金属圆盘固定在所述冷却水管的顶部。
8.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述感应熔炼炉通过支架固定连接在腔体内壁上,所述支架可横向移动,以调整坩埚底孔与其下方的旋转盘横向距离。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金川集团有限公司,未经金川集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020613671.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。