[实用新型]硅液面位置控制装置

权利要求书

1.一种硅液面位置控制装置，该控制装置安装在单晶炉上的观测窗口上，其特征在于，包括：激光发射器、激光接收器和控制回路，

所述激光发射器可调节的设置在所述单晶炉上的第一观测窗口；

所述激光接收器用于接收所述激光发射器的光束显示硅液面的变化，并可调节的设置在所述单晶炉上的第二观测窗口上；

所述控制回路接收所述激光接收器的信号，并根据该信号控制所述单晶炉上的马达控制坩埚的至目标位置。

2.根据权利要求1所述的硅液面位置控制装置，其特征在于，所述激光接收器为光电板，所述光电板上设置有正值、零值和负值，当所述光电板为正值时，所述控制回路控制驱动马达使所述坩埚上升；当所述光电板为负值时，所述控制回路控制驱动马达使所述坩埚下降；当所述光电板为零值时，所述控制回路控制所述马达停止运动。

3.根据权利要求1所述的硅液面位置控制装置，其特征在于，所述马达包括低速马达和高速马达。

4.根据权利要求3所述的硅液面位置控制装置，其特征在于，还包括报警装置，当所述硅液面到达报警位置时，所述报警装置进行报警，且所述控制回路控制所述马达切换至低速马达驱动。

5.根据权利要求1所述的硅液面位置控制装置，其特征在于，还包括温度检测仪，所述温度检测仪设置在所述报警位置。