[实用新型]PECVD设备新型开关炉门

说明书

技术领域

本实用新型涉及PECVD设备新型开关炉门。

背景技术

对于PECVD（等离子增强型化学气相沉积）设备开关炉门，应该具有便于结构紧凑，位置调整和密封可靠的特点。目前PECVD设备的开关炉门主要有两种方式：第一种是普通旋转式，如图1所示，旋转气缸1通过旋臂杆5与炉门3中心的关节轴承4连接，旋转气缸1将炉门3旋转至炉体2的炉口处，然后将炉门3与炉口压紧，中心的关节轴承4起到自动找正的作用，它的缺点是气缸负载较大，且不便于位置的调节；第二种方式是间接旋转方式，如图2所示，与炉门3上的关节轴承4连接的旋臂杆5固定在支座7上，通过气缸6的伸缩来带动炉门3的旋转，旋转到炉口处再将炉门夹紧，它的缺陷在于占用空间大，不方便调节位置。

发明内容

为了克服上述缺点，本实用新型提供了一种气缸负载小、运动平稳、结构紧凑、占地面积小、方便位置调整、密封性效果好的PECVD设备新型开关炉门。

本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门包括导轨、无杆气缸、无杆气缸滑块、支撑板、导轨滑块、炉体、炉门、运动臂、至少两个关节轴承；其中，导轨、无杆气缸及炉体均被固定在机架上，导轨滑块与导轨可滑动的配合，无杆气缸滑块与无杆气缸外壳可滑动的配合，无杆气缸滑块与导轨滑块都固定在支撑板上，支撑板与运动臂固定连接，运动臂通过两个关节轴承与炉门连接，关节轴承的连线与导轨垂直。

本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门为直线运动机构，采用无杆气缸驱动，无杆气缸滑块设置在无杆气缸上，通过无杆气缸推动无杆气缸滑块沿着无杆气缸的表面自由滑动；当无杆气缸工作时，驱动炉门沿着导轨向炉口处移动，使炉门稳定地到达与炉口同心的位置，然后将炉门推向炉口并夹紧。当炉门沿着导轨运动至炉口，只要保证在关节轴承的两点处，炉门能够大体对准炉口，由于两关节轴承的连线与炉门运动方向垂直，此时炉门可以在竖直方向小角度内转动，便于它与炉体6的炉口自动找正，实现炉门与炉口的紧密贴合。而调整关节轴承两点处的位置，只需上下调节炉头炉尾的位置便可以轻易实现。

本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门，导轨、滑块等组成为直线运动机构，两个关节轴承之间连线与导轨垂直。因此，可以最大程度的实现炉门与炉口的自动找正功能，同时该炉门节省空间，使气缸负载小、运动平稳，炉门机构紧凑，密封性能也得到了保障，并且方便设备的安装和维护。而间接旋转方式炉门，由于关节轴承连线是倾斜的，炉体将很难调整位置。

为了获得更好的效果，本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门可以采用以下措施：

1、本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门，所述的导轨为两根，与其分别配合的导轨滑块也为两个。其优点在于，在无杆气缸进行驱动时，炉门可以较平稳的向炉口运动。

2、本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门，所述的两根导轨分为位于无杆气缸的上方和下方。其优点在于，可以使炉门更加平稳的在无杆气缸的驱动下向炉口运动。

3、本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门，所述的无杆气缸为机械耦合型或磁性耦合型。

附图说明

图1为普通旋转式PECVD设备开关炉门的示意图。

图2为间接旋转方式PECVD设备开关炉门的示意图。

图3为本实用新型所述PECVD设备新型开关炉门的示意图。

1-旋转气缸；2-炉体；3-炉门；4-关节轴承；5-旋臂杆；6-活塞式气缸；7-支座；8-运动臂；9-导轨；10-无杆气缸；11-无杆气缸滑块；12-支撑板；13-导轨滑块。

具体实施方式

图3为本实用新型所述PECVD设备新型开关炉门的实施例。

本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门包括炉体2、炉门3、两个关节轴承4、运动臂8、两根导轨9、无杆气缸10、无杆气缸滑块11、支撑板12、两个导轨滑块13。

两根导轨9、无杆气缸10及炉体2均被固定在机架上，其中两根导轨9分别固定在无杆气缸10的上方和下方；

导轨滑块13设置在导轨9上，并可沿着导轨9上左右自由滑动；

无杆气缸滑块11设置在无杆气缸10上，并可以沿着无杆气缸10的表面自由滑动，无杆气缸滑块11滑动的动力来源于无杆气缸10内部，其动力是通过机械耦合或磁性耦合实现的；

无杆气缸滑块11与两个导轨滑块13都固定在支撑板12上，两个导轨滑块13分别固定在无杆气缸滑块11的上方和下方；

支撑板12与运动臂8固定连接；

运动臂8通过两个关节轴承4与炉门3连接，两个关节轴承4的连线与导轨9垂直。