[实用新型]一种痕量物质分析装置无效
| 申请号： | 201020635143.7 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN202018423U | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | 鲁通通;李劲松 | 申请（专利权）人： | 中国计量学院 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31;G01N21/55;G01N21/21 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 痕量 物质 分析 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种痕量物质分析装置，
其特征为：
a、包括电压源、表面等离子体共振器、偏振态调节器、光电探测器、法-珀腔装置和光源六部分；
b、法-珀腔装置由第一透明导电膜、入射高反射膜、电光材料平板、出射高反射膜和第二透明导电膜五部分组成。
2.如权利要求1所述的一种痕量物质分析装置，其特征在于：所述的入射高反射膜和出射高反射膜的材料为铝或金。
3.如权利要求1所述的一种痕量物质分析装置，其特征在于：所述的偏振态调节器位于表面等离子共振器前方。
4.如权利要求1所述的一种痕量物质分析装置，其特征在于：所述的第一透明导电膜层和入射高反射层相连，位于电光材料平板的左侧，并且和电压源的负极相连。
5.如权利要求1所述的一种痕量物质分析装置，其特征在于：所述的第二透明导电膜层和出射高反射层相连，位于电光材料平板的右侧，并且和电压源的正极相连。
6.如权利要求1所述的一种痕量物质分析装置，其特征在于：所述的光电探测器位于整个装置最右侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国计量学院，未经中国计量学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020635143.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：激光切割机料架同步升降机构
- 下一篇：软性电路板的制作方法
