[实用新型]储珠盘及使该储珠盘的镶钻机无效
申请号: | 201020637774.2 | 申请日: | 2010-11-29 |
公开(公告)号: | CN201864939U | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 朱俊晖 | 申请(专利权)人: | 天津宝盈电脑机械有限公司 |
主分类号: | D05C13/00 | 分类号: | D05C13/00;D05C7/02;D06Q1/10 |
代理公司: | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人: | 王顕 |
地址: | 301800 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 储珠盘 钻机 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种储珠盘,尤其涉及一种镶钻机的储珠盘结构。
背景技术
在电脑绣花机技术领域中,绣花是美化编织品的一种形式,镶钻则是另一种形式。由于镶钻是采用机头来实现的,而镶钻机头必须人工脚踏开关操作并且得花钱购买烫图进行镶钻,人力浪费大、工作效率低,质量不稳定。在当前智能技术大发展的情形下,采用自动化控制技术是完全可以改变人工镶钻而实现镶钻机的自动镶钻的。
现有技术中两个钻盘电机是分时工作的,因为只有一个真空吸嘴,只有吸嘴对着的那个钻盘的电机才会工作,工作的状态就是保持匀速缓慢转动,只有当真空吸嘴吸到钻时转盘才会停止,因为真空吸嘴一旦吸到钻,那么压力检测器就会发出信号给镶钻控制板,控制板这时就会停止发出电机旋转的信号。切换电磁阀的作用是控制换色气缸,当要进行大小珠切换工艺操作时,镶钻控制板就会发信号给切换电磁阀,使其控制换色气缸动作,从而完成一次换色过程,也可通过机器大梁上的手动换色按钮来进行手动换色。
图1所示为现有的储珠盘100结构示意图,当前的储珠盘每个孔位110只能存放一个烫珠,在储珠盘旋转过程中经常出现储珠盘无珠现象,不能提高镶钻速度,影响镶钻效率。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是克服已有技术的缺点,提供一种能避免吸嘴吸珠过程出现空珠的镶钻机储珠盘结构。
本实用新型主要采用的技术方案是:
一种储珠盘,其圆盘状结构中心处设置有与储珠盘电机输出轴匹配的配合孔,在所述的储珠盘靠近储珠盘边缘处开设有珠槽,所述的珠槽能存至少2个烫珠。
优选地所述的珠槽能存3个烫珠,这样即能有效避免烫珠过多产生相互干扰又能有效避免烫珠全被刷下造成空珠现象。
所述的珠槽包括中间的矩形凹槽以及与所述的矩形凹槽两端连通的半圆形凹槽。
所述的珠槽沿圆周具有一定斜度,所述珠槽远离储珠盘中心一端的中心与储珠盘中心之间的连线与所述的珠槽中心线之间的夹角在60-80度。
所述珠槽远离储珠盘中心一端的中心与储珠盘中心之间的连线与所述的珠槽中心线之间的夹角为70度。
所述的珠槽的深度大约等于烫珠的厚度一半。
同时,本实用新型还公开了一种使用上述储珠盘的镶钻机,采用可容纳多个烫珠的珠槽结构,即可有效避免空珠现象,提高镶钻机的工作效率。
本实用新型的有益效果是:本实用新型的珠槽结构能同时容纳多个烫珠,即便在后续的调整刷的作用下有些烫珠被刷下,但仍能够保证每个珠槽内至少有一个烫珠存在,不会出现空珠现象。珠槽采用倾斜结构,使烫珠在储珠盘旋转的过程中能够在吸珠前滑落到相应位置,然后真空枪吸住,不会在吸嘴吸珠过程中出现空珠现象,提高吸珠速度,改善生产效率。
附图说明
图1为现有储珠盘结构示意图;
图2为本实用新型的储珠盘结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明:其中本实用新型的镶钻机与现有技术相同,故在此不再赘述。
如图2所示,本实用新型的储珠盘200为圆盘状结构其中心处设置有与储珠盘电机输出轴匹配的配合孔220,在所述的储珠盘靠近储珠盘边缘处开设有珠槽210,所述的珠槽210沿圆周有一定斜度,其中所述的珠槽210包括中间的矩形凹槽以及与所述的矩形凹槽两端连通的半圆形凹槽,两个半圆形凹槽的直径即为矩形凹槽的宽边,其中所述珠槽210远离储珠盘200中心一端的半圆形凹槽的圆心与储珠盘中心之间的连线与所述的珠槽210长度方向的中心线之间的夹角在60-80间,优选地为70度,当然,针对不同材质的储珠盘及不同形状、材料的烫珠,因其摩擦力的变化,在上述范围之外设置同样在本实用新型的保护范围之内。所述的珠槽的长度以能存至少2个类似半球形的烫珠,以2到4个为宜,其中以3个烫珠为最佳实施方式。
其中,所述的珠槽的深度一般与烫珠厚度相匹配,以等于或者稍大于或小于所述的烫珠的厚度一半为宜。
配置有本实用新型的镶钻机在工作时,储珠盘在其电机的带动下与在一个与水平面有个夹角的平面上转动,在所述的储珠盘外侧设置有储珠部件,所述的储珠部件上堆积有多个烫珠,储珠盘在缓慢转动并通过所述的多个烫珠底部时,烫珠会进入珠槽中并随之转动,在后续的调整刷的作用下将半球形的烫珠球面向上,最终储珠盘将烫珠旋转至真空枪对应位置处。
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